MOAFAB

2차이온질량분석기

Secondary Ion Mass Spectrometry (SIMS)

3차원 프로파일러

3D Profiler

3D Atom Probe Tomography (LEAP4000X HR) 1

3D Atom Probe Tomography (LEAP4000X HR) 1

3D Conforcal Scanning Microscope (3DCSM)

3D Conforcal Scanning Microscope (3DCSM)

4단 면저항 측정기-1

4 Point Probe - 1

8인치 트렉 시스템-2 (SVS)

PR Track_SVS - 2

8인치 트렉 시스템-3 (SVS)

PR Track_SVS - 3

감광제 제거 시스템-Ⅱ

PR Asher_FEOL - 2

감광제 제거 시스템-I

PR Asher_FEOL - 1

고온 습식/건식 산화로

Furnace Oxidation_LEAD

고온이온주입장치

SiC ion implantation

광학현미경-Diffusion

Optical Microscopes-Diffusion

광학현미경-EBL

Optical Microscopes-EBL

광학현미경-Etch

Optical Microscopes - Etch

광학현미경-I

Optical Microscopes - Photo

광학현미경-THinFilm

Optical Microscopes - ThinFilm

구면수차보정 투과전자현미경

HR FE-TEM-Ⅱ (2200FS with Image Cs Corrector)

구면수차보정 투과전자현미경

HR FE-TEM-Ⅰ (2100F with Probe Cs-Corrector)

급속열산화막용 급속열처리기

RTP for RTO

노광기-2

I-Line Stepper - 2

노광기-4

I-Line Stepper - 4

마스크리스 레이저 리소그래피 시스템

Maskless laser lithography system

마스크얼라이너

Mask Aligner_MA6

물리증착장치(스퍼터)- II

Sputter_ENDURA - 2

박막두께측정기

Spectroscopic Ellipsometer

선폭&표면 측정장치

CD&Surface inspection system

세정 및 에칭장치

Wet Station_Acid - 1

스트레스측정시스템

Stress Measurement System

스핀건조기

Spin Rinse Dryer

알파스텝(ME)

Alpha-Step (ME)

원자층증착장치

Atomic Layer Deposition (ALD)

임계치수 측정 주사현미경

CD-SEM

자외선 트렉 시스템

PR Track_DAVID

저압 화학증착장치

LP-CVD

전계 방출형 주사전자현미경

[Hitachi S-4800] High Resolution FE-SEM- Ⅲ

전계 방출형 주사전자현미경

[JSM 7800F PRIME with Dual EDS] High Resolution FE-SEM-Ⅱ

전계 방출형 주사전자현미경

[JSM 7401F] High Resolution FE-SEM-I

전계방출전자현미경

HR FE-SEM (in Clean Room)

전자빔 증착장비

E-beam Evaporator-2

전자빔리소그래피시스템-1

E-Beam Lithography System - 1

전자빔리소그래픽시스템-2

E-Beam Lithography System - 2

전자빔증착기-1

E-Beam Evaporator - 1

절연막건식 식각 장비

Dry Etcher - TEL

커브트레이서 및 프로브 스테이션

Curve Tracer & Probe Station

프로브스테이션_파워반도체(소자)

Probe Station_Power Semiconductor

플라즈마 유도결합 식각장치

Dry Etcher_DMS

플라즈마증착장치 - P5000

PE-CVD - P5000

플라즈마증착장치-1

PE-CVD-1

플라즈마증착장치-2

PE-CVD-2

AP-CVD

AP-CVD

APLT SPEED-200iD

APLT SPEED-200iD

Atomic Force Microscope-Ⅰ(D 3100) / AFM-Ⅰ

Atomic Force Microscope-Ⅰ(D 3100) / AFM-Ⅰ

Atomic Force Microscope-Ⅱ(Jupiter XR) / AFM - Ⅱ

Atomic Force Microscope-Ⅱ(Jupiter XR) / AFM - Ⅱ

Cutting/Grinding/Polishing System

Cutting/Grinding/Polishing System

DC&RF 물리증착장비

DC&RF Sputtering system

Deep Reactive Ion Etcher(DRIE) - 1

Deep Reactive Ion Etcher(DRIE) - 1

Deep Reactive Ion Etcher(DRIE) - 2

Deep Reactive Ion Etcher(DRIE) - 2

Dry Etcher_Oxide

Dry Etcher_Oxide

Dry Etcher_Poly Si

Dry Etcher_Poly Si

Dry-Etcher_gigalane

Dry-Etcher_gigalane

Focused Ion Beam -Ⅰ(Helios 600 with TKD) / FIB -Ⅰ

Focused Ion Beam -Ⅰ(Helios 600 with TKD) / FIB -Ⅰ

Focused Ion Beam -Ⅱ(Helios 650 with EBSD) / FIB -Ⅱ

Focused Ion Beam -Ⅱ(Helios 650 with EBSD) / FIB -Ⅱ

Focused Ion Beam -Ⅲ(Helios G3 CX) / FIB -Ⅲ

Focused Ion Beam -Ⅲ(Helios G3 CX) / FIB -Ⅲ

Focused Ion Beam -Ⅳ(SMI 3050) / FIB - Ⅳ

Focused Ion Beam -Ⅳ(SMI 3050) / FIB - Ⅳ

Furnace Activator_SiC 200

Furnace Activator_SiC 200

Furnace High Temp anneal_SiC

Furnace High Temp anneal_SiC

Furnace Metal Anneal

Furnace Metal Anneal

High Resolution FE-SEM-Ⅳ (JSM-IT710HR)

High Resolution FE-SEM-Ⅳ (JSM-IT710HR)

High Resolution Powder-XRD

High Resolution Powder-XRD

ICP 식각 장치 - 2

Dry-Etcher_Ulvac

ICP 식각장치

Dry Etcher_ICP

I-Line Stepper - 1

I-Line Stepper - 1

I-Line Stepper-3

I-Line Stepper-3

Ion Beam Thinner

Ion Beam Thinner

LPCVD Furnace

LPCVD Furnace

Mask Aligner_MA8

Mask Aligner_MA8

Mask Aligner_ME

Mask Aligner_ME

MEMS Spin Coater

MEMS Spin Coater

MEMS Yellow Wet station

MEMS Yellow Wet station

MEMS Yellow Wet station - Organic

MEMS Yellow Wet station - Organic

Metal Lift-Off

Metal Lift-Off

NEMS 제작을 위한 Base System

NEMS Base System (optical microscope)

NEMS White Wet station - Acid

NEMS White Wet station - Acid

NEMS White Wet station - Organic

NEMS White Wet station - Organic

Nikon KrF S204B

Nikon KrF S204B

OLED 증착장비(200x200 glass)

OLED Systems

PECVD System P-5000

PECVD System P-5000

PR Asher for BEOL

PR Asher for BEOL

PR Spin Coater_Sawatec

PR Spin Coater_Sawatec

PR Track_SVS - 1

PR Track_SVS - 1

PR Track_TEL - 1

PR Track_TEL - 1

PZT sputtering

PZT sputtering

Raman Spectroscopy(Alpha 300 R)

Raman Spectroscopy(Alpha 300 R)

RTP for Silicide

RTP for Silicide

Sputter (OLED)

Sputter (OLED)

Sputter_ENDURA - 1

Sputter_ENDURA - 1

Surface Potential Measurement System

Surface Potential Measurement System

TEL Spinner ACT8

TEL Spinner ACT8

UHV-CVD

UHV-CVD

UV/Vis/nIR Spectrometer

UV/Vis/nIR Spectrometer

Wafer Laser Marker

Wafer Laser Marker

Wet Station_Acid - 2

Wet Station_Acid - 2

Wet Station_Acid - Metal

Wet Station_Acid - Metal

Wet Station_Ebeam

Wet Station_Ebeam

Wet Station_Pre Clean

Wet Station_Pre Clean

감광제 두께 측정장비

감광제 두께 측정장비

곡면 나노임프린팅 시스템

곡면 나노임프린팅 시스템

광특성분석장비

광특성분석장비

나노구조체 회절특성 분석용 UV 레이저 시스템

나노구조체 회절특성 분석용 UV 레이저 시스템

나노패턴 대면적 레이저 시스템

나노패턴 대면적 레이저 시스템

다이아몬드 터닝 머신

다이아몬드 터닝 머신

대면적 스핀코터

대면적 스핀코터

대면적 원통/평판 현상 시스템

대면적 원통/평판 현상 시스템

대면적 원통박막 코팅 장비

대면적 원통박막 코팅 장비

대형 나노 금형 리페어 장비

대형 나노 금형 리페어 장비

대형 스프레이 코팅 시스템

대형 스프레이 코팅 시스템

대형 평판형 증착장비

대형 평판형 증착장비

라만분석 장비

라만분석 장비

방진 시험기

방진 시험기

복합환경 신뢰성 챔버장비

복합환경 신뢰성 챔버장비

산소투과도 시험기

산소투과도 시험기

수분투과도 시험기

수분투과도 시험기

스크린 프린팅 장비

스크린 프린팅 장비

알파스텝 프로파일러 장비

알파스텝 프로파일러 장비

원자현미경

원자현미경

위상전이 자외선 노광 시스템

위상전이 자외선 노광 시스템

이온빔 가공 장비

이온빔 가공 장비

정밀 레이저 커팅 장비

정밀 레이저 커팅 장비

평판금형 랩핑 장비

평판금형 랩핑 장비

평판롤 열판/건조로

평판롤 열판/건조로

평판형 대면적 3차원 현미경

평판형 대면적 3차원 현미경

DFR 라미네이터 공정 시스템

DFR 라미네이터 공정 시스템

감광액 도포기(200*200)

Track sytem(200*200)

고속식각 장비

Deep RIE

고온 진공 건조기

High temperature vacuum Oven

고해상도 엑스선 회절분석기

High resolution X-Ray Diffraction

광학 현미경

Optical Microscope 2

노광기(2007)

CONTACT ALIGNER(2007)

대면적 광학 현미경

Large areal optical microscope

대면적 유기박막 패터닝 시스템

Largearea organic semiconductor thinfilm patterning system

대면적 전극증착 시스템

Large-area metal evaporation/sputtering system

대면적 OLED면광원 결함 제어 시스템

Large Area OLED Lighting Defect Control System

마스크 얼라이너(370*470)

Mask aligner(370*470)

면저항측정기

4-Point probe

박막형상 및 면저항 측정기

3D Surface profiling system

반응성 이온 식각기

Reactive Ion Etcher

스텝퍼(Stepper)

Stepper

스트레스 측정 시스템

Stress Measurement System

스퍼터

In-line Sputter

스퍼터링 증착기

Sputtering system

스핀코팅기(370*470)

Track system(370*470)

습식 식각장치, 습식 세정장치, 감광막 제거장치

Wet Station(Etch)

습식세정장치

Acid wet station

웨이퍼 식각기 / 습식식각세정장치

Wet station Megasonic cleaner PR stripper+D12:J12

유기소자 투습도 측정 시스템 / 수분투과측정시스템

Water Vapor Transmission Analyzer

유도결합형 플라즈마 식각장치(금속)

ICP-ETCHER(metal)

유도결합형 플라즈마 식각장치(유전체)

ICP ETCHER(Non Metal)

일함수 측정기

Workfunction measuremet system

저압화학기상증착기

LPCVD

전계방출형 주사전자현미경

FE-ESEM(Field emission - Environmental Scanning electron microscope)

점탄성 측정기

Rheometer

접촉각 측정기

Contact Angle Analyzer

주기적 화학 기상 증착 장비

Cyclic Chemical Vapor Deposition system

캐필러리 코팅 시스템

Capillary coating system

컨텍얼라이너(2023)

Contact aligner(2023)

투과분석 전자 현미경

Transmission Electron Microscope

플라즈마 에셔

Plasma Ashing system

회전건조기

Spin Rinse Dryer

Alpha step

Alpha step

Atomic Force Microscope(AFM)

Atomic Force Microscope(AFM)

E-Beam Evaporator

E-Beam Evaporator

Ellipsometer

Ellipsometer

Focused Ion Beam

Focused Ion Beam

IR 레이저 가공 시스템

IR Laser scribing system

Surface profiler

Surface profiler

200 kV 전계방출형 투과전자현미경

FE-TEM (200 kV)

200mm 다중 챔버 원자층 증착 시스템

200mm Multi Chamber Atomic Layer Deposition System

300mm 두께 측정 장비

300mm Thickness Measurement System

300mm 매엽식 세정 장치

300mm Single cleaner

300mm용 주사탐침현미경

AFM (300mm Wafer)

300mmm 금속증착 장비

Sputter

3차원 가상 공정 시뮬레이터

Simulator3D

8인치/12인치 웨이퍼 레벨 금속 오염 분석기

VPD-ICPMS

감광제 제거 장비

300mm PR Stripper

감광제 제거장치

PR Stripper

감광제 제거장치

PR Stripper

감광제 제거장치

PR Stripper

건식 식각 장치

Dry etch

겔투과 크로마토그래피

GPC

고면저항 측정기

(CMOS) 4-Point Probe

고밀도플라스마 화학기상 증착장치

HDPCVD(STI,FSG)

고분해능 전계방사형 주사전자현미경

Inline FE-SEM

고분해능 전계방출형 주사전자현미경

UHR FE-SEM

고성능 유세포 측정분석기

High Performance Flow Cytometer

고속 회전 절삭기

Dicing machine

고속 회전 절삭기

Dicing Sawing Maching & spin dryer

고속원심분리기

Centrifuge

고에너지 이온주입장치

High energy implant

고온 열처리 확산로

Furnace (High Temp Ox)

고온저장시험기

Temerature Chamber

고전류 이온주입장치

High current Ion Implanter

고종횡비 산화막 건식식각장치

HAR Dielectric Etcher

고종횡비 실리콘 식각 장비

Deep Si Etcher

고진공 웨이퍼 본딩장치

High vacuum wafer bonding system

고진공 패키징 장치

High Vacuum Sealing system

공초점 레이저 주사 현미경

Confocal Laser Scanning Microscope

구리용 스퍼터

CMOS Sputter - Ti/TiN/Co/Al

구면수차보정 주사투과전자현미경

Cs-corrected STEM

구면수차보정 투과전자현미경

In situ TEM

극자외선축소투영노광시스템

KrF Inline Scanner

극자외선축소투영노광시스템

KrF inline Scanner

글러브박스

Glove Box

금속 식각장치

Metal Etcher - Al,Ti,TiN

급속 열처리장치

Spike RTP system

급속 열처리장치

RTP system

급속 열처리장치

RTP system

급속 열처리장치

RTP system (Metal grade RTP)

나노구조 캐스팅 장치

nanostructure casting

나노압입시험기

Nanoindentation Tester

나노압입시험기

Nanoindentation Tester

나노폴리머 기상증착기

i-CVD

나노폴리머 캐스팅 장비

Nano Polymer Casting Machine

다기능 엑스선 광전자 분광기

Multi-Functional XPS

다중챔버 플라스마 화학기상 증착장치

Multi Chamber PECVD(TEOS,BPSG,ACL)

다중타겟 스퍼터

Multi-target sputter

다중타겟 스퍼터

NEMS - Multi Target Sputter

다중타겟 스퍼터

Multi-Sputter

단광자 검출기

Superconducting Nanowire Single Photon Detector

대기압 플라즈마처리

Plasma Treatmet System

대면적이온밀링시스템

Ion Milling System

듀얼집속이온빔장치

8-inch DB-FIB (EDS)

듀얼집속이온빔장치

DB-FIB

듀얼집속이온빔장치

DB-FIB

라만 분광기

Raman Spectrometer

레이저 마이크로 시스템

Laser Micromachining System

레이저 마킹장치

Laser Source Marking

레이저 어닐장치

Laser Anneal system

마스크 제작

Maskless aligner

마스크리스 얼라이너

Maskless Aligner

마이크로 전극성형기

Micro electrode patterning system

마이크로 패터닝 시스템

Micro patterning system

만능재료 시험기

Universal Testing Machine

매뉴얼 프로브 스테이션

Manual Probe Station

멀티챔버 식각장치

Metal Etcher - Al,Ti,TiN,W

멤스용 감광제 제거장치

PR Stripper - NEMS 전용

멤스용 세정장치

Wet Station - NEMS Acid

멤스용 세정장치

Wet Station - NEMS Solvent

멤스용 열처리 확산로

NEMS - Furnace

멤스용 열처리 확산로

MEMS Furnace

멤스용 저압화학기상 증착로

Poly Furnace

멤스용 저온 열처리로

NEMS - Low Temp Anneal Furnace

멤스용 화학기상 증착장치

MEMS PETOS

멤스용 화학기상 증착장치

Multiple PECVD

면저항 측정기

(Sensor) 4-point Probe

면저항 측정기

(NEMS) 4-point Probe

미세유체 특성평가 시스템

Microfluidic performance analyzer

바이+A55+D55

BiO Spin Coater

반도체 기판의 휨 측정 장비

Wafer Warpage Measuring System

반자동 진공 프로브스테이션

Semi-auto Vacuum Probe Station

복합환경시험기

Complex Environment Tester

분광 반사 및 타원해석기

Auto Thickness Measurement System

분광 반사율 측정기

Reflectormeter (Litho)

분광 반사율 측정기

Reflectormeter (NEMS)

분광반사율측정기

Spectroscopic Reflectometer

분광타원편광해석기

Spectroscopic Ellipsometer

불화아르곤 노광기

ArF dry scanner

비파괴 선폭측정 주사현미경

CD-SEM

비파괴 선폭측정 주사현미경

CD SEM

비표면적 측정장치

BET(surface area analyzer)

비표면적분석기

BET(surface area analyzer)

비행시간형 이차이온질량분석기

Time-of-Flight SIMS

산화물 식각장치

Dielectirc / Poly Etcher

산화물 식각장치

Dielectric Etcher - BEOL

세미오토 프로브 스테이션

Semi-auto Probe Station

세정 장치

Wet cleaning

세정장비

Wet Station

센서 특성 평가 수동 시스템

Vacuum Probe Station

수동 감광제 도포 및 가열장치

Manual Coater

수동 세정장치

MEMS Wet Station - Develop

수직형 열처리 확산로

Furnace (Vertical Gate)

스탭식투영노광장치

I-line Stepper

스탭식투영노광장치

I-line Stepper

스텔스 레이져 다이싱 장치

Stealth Laser Dicer

신소재 세정장치

신소재 Wet Station

실리콘 건식식각장치

Si Micro-machinable etcher

실시+A52+D52

Real time PCR

싱글집속이온빔장치

SB-FIB

압전물질 건식 식각

압전물질 건식 식각

압전박막 결정성장 증착장비

AlN sputter

액침 불화아르곤 엑시머 레이저 노광기

ArF Immersion Scanner

엑스선 광전자 분광기

X-ray Photoelectron Spectroscopy

엑스선 회절분석기

X-Ray Diffractometer

엘라이저 리더

Spectrophotometer

연속증착식각장치

Continuous deposition & etching equipment

열 산화막 성장로

Thermal Oxidation Furnace

열중량/시차주사열량 동시 열분석기

TGA DSC

열처리 확산로

Furnace (Gate Ox)

열처리 확산로

Furnace (Any Ox)

열처리 확산로

Furnace (Metal Ox)

오토스테이지 광학현미경

Auto-stage Microscope

온도사이클시험기

NEMS Temperature Cycle

와이어 본딩 시스템

Wire Bonding System

원자 탐침 단층현미경

Atom Probe Tomography

원자층 이온빔 식각장치

Atom Layer Ion Beam Delayer(ALIBD)

웨이퍼 레벨 3차원 비파괴 검사시스템

WL 3D SAM

웨이퍼 면취 장치

Edge Grinder

웨이퍼 본더

Multi stack wafer bonder

웨이퍼 세정 장비

Non_Metal

웨이퍼 세정 장비

Metal_Acid

웨이퍼 세정 장비

Wet Station - Post Cleaner

웨이퍼 세정 장비

Metal_Solvent

웨이퍼 연삭 및 연마 장치

Back Grinder

웨이퍼 절단 장치

Dicing Saw

이온반응식각장치

RIE

이온반응식각장치

Reactive Ion Etcher

이온빔 증착기

Ion Beam Evaporator

이온연마장치

TEM - Sample Preparation

임계치수 전자주사현미경

CD SEM

임프린트 시스템

Nano Imprint Lithography System

입도 분석기

Particle Size Analyzer

자기섹터 이차 이온 질량분석기

Magnetic Sector SIMS

자기섹터 이차 이온 질량분석기

Magnetic Sector SIMS(A)

자동 감광제 도포장치

MEMS Track for Aligner

자동 감광제 도포장치

I-line Track

자동 감광제 도포장치

Auto Track for Aligner

자동 감광제 도포장치

I-line Track

자동 리프트오프 장비

Auto Lift-off M/C

자동 양면 마스크 얼라이너 장비

Automated Doubleside Contact Aligner

자동 웨이퍼 본딩장치

Wafer Bonder

자동 프로브 스테이션

Auto Probe Station

자동 화학기상 증착장치

PECVD(Auto)

자동감광제 도포장치(ArF용)

Track(Spinner) for ArF Immersion Scanner

자동핵산 추출기

Nucleic Acid Extractor

잔류응력 측정기

Stress Gauge

저압 화학기상 증착로

Furnace(LPCVD Nitride)

저압 화학기상 증착로

Furnace (LPCVD Poly)

저압 화학기상 증착로

Furnace (LPCVD TEOS)

저압 화학기상 증착로

Furnace (LPCVD Nitride)

저압 화학기상 증착로

LPCVD Nitride Furnace

저온 열처리 확산로

Furnace (Low Temp Anneal)

저온 이온빔 단면가공기

Cross Section Polisher

저응력 질화막 증착로

Low Stress Nitride Furnace

저응력 질화막 증착로

Low Stress Nitride Furnace

적외선 분광기

FT-IR Microscope

전계방출형 주사전자현미경

FE-SEM (S4800-1)

전계방출형 주사전자현미경

FE-SEM

전계방출형 투과전자현미경

FE-TEM (300 kV)

전도체 식각 장치

Conductor Etch

전자빔증착장치

NEMS - E-Beam Evaporator

전자빔증착장치

NEMS - E-Beam Evaporator

전자선용 감광제 도포장치

E-beam Track

절연막실리콘 식각장치

Dielectirc / Poly Etcher

접착 및 압인 가공장치

Fusion bonder / Hot embossing

접촉식 단차측정기

Surface Profiler

접촉식 마스크 노광기

Contact Aligner

접촉식 마스크 노광기

Contact Aligner

주사탐침현미경

AFM (SPM-PSIA)

중전류 이온주입 장치

Medium current Ion Implanter

진공 퍼니스

Vacuum Furnace

진공오븐

Vacuum Oven

체외진단용 유전자 증폭기

Real Time PCR

초가속 온습도 스트레스 시험기

NEMS HigH Accelerate

초음파 발생기

Ultrasonic generator

초음파 융착기

Sonic Bonder

충방전 테스트 시스템

Charge / Discharge test system

층간중첩도 측정장치

Overlay

층간패턴 중첩도 측정장치

Overlay measurement

층간패턴 중첩도 측정장치

Overlay Measurement

컵타입 전해도금장치

NEMS - Electroplating

컵타입 전해도금장치

NEMS - Electroplater

텅스텐 화학기상 증착장치

CVD W

티타늄 물리기상 증착장치

CMOS Sputter - Ti/TiN/Co/Al

파티클 오염 검수장치

Particle counter

파티클오염 검수장치

Particle Counter

패키지 실장 평가 시스템

Reflow

패턴 웨이퍼 결함 검사 장비

Defect Inspection

펨토초 유연소재 가공장치

Multi-function fs laser systems

편광 현미경

Polarizing microscope

폴리머 도포장치

Parylene Coater

폴리머 몰딩 장치

polymer molding

폴리머 식각장치

Polymer Etcher

폴리메탈 식각장치

Poly / Metal Etcher + PR Strip

폴리실리콘 증착로

Furnace (LPCVD Poly)

표면 플라즈마 공명기

Surface Plasmon Resonance

표면단차측정기

Surface Profiler (Etch)

표면탄성파 발생기

Surface Acoustic Wave SAW Generator

플라즈마 화학기상 증착 장비

12" PECVD

플라즈마 화학기상 증착 장비

300mm PECVD

플로팅 커팅기

Plotting Cutting

플립 칩 본더

Flip chip bonder

필름 라미네이터

Film Laminating

필름 제거 세정 장치

Film Strip Wet Station

항온항습시험기

Temerature humidity tester

화학 센서 평가 시스템

Sensing Performance Measurement System

화학기상 증착로

Furnace (LPCVD TEOS)

화학기상 증착장치

a-Si/Oxide/Nitride

화학기상 증착장치

SiH4 Base PECVD/HDP

화학기상 증착장치

PETEOS/BPSG

화학물리적 구리박막 연마장치

CMP System

화학물리적 산화막 연마장치

W CMP

화학물리적 산화막 연마장치

Oxide CMP

후면광자검출기

Inverted Photon Emission Microscope

Auto. double side mask alignment

Auto. double side mask alignment

BiO Wet Station

Bio-SEM

Bio-SEM

Desktop SEM

Desktop SEM

EME40

metal etch

EMO10

FE-SEM(S4800-2)

FE-SEM(S4800-2)

IGZO Sputter

IGZO Sputter

Jadu(설계, 검증, 시뮬레이션)

NN+A236+D236

Low Temp. PECVD

Low Temp. PECVD

LTK10

Track System

NEV50

ion beam evaporator

NUV10

UV Curing

NWS50

Wet cleaning

OPC(광학 근접보정)

OPC

Spray coater

Spray coater

sputter+glove box

sputter+glove box

Wet cleaning

Wet cleaning

3차원 공정시스템

3D fabrication system

600 MHz 저온 핵자기공명분광기

600 MHz 저온 핵자기공명분광기

검사용 마이크로스코프

Inspection microscope(semi-auto)

검사용 마이크로스코프

Inspection microscope(manual)

고분해능 라만분광분석기

High Resolution Raman Spectroscopy System

고분해능 엑스선 회절분석기

HR X-ray Diffraction

고분해능 전계방사 주사전자현미경

Field-Emission Scanning Electron Microscopy

고성능 산화막식각장비

Deep oxide/SiC etching system

고성능 절연막 식각기

Dielectric ICP Etcher System

광전자분광표면분석기

X-ray Photoelectron Spectrometer

국소 레이저전계형 원자단층현미경

Local Electrode Atom Probe Tomography

금속 습식식각장비

Metal wet etch station

금속박막식각시스템

Metal etcher system

금속박막증착시스템

Metal sputtering system

금속습식세정장비

Metal Wet Station

급속열처리시스템

RTP(Rapid Thermal Process) System

급속열처리장비

Rapid Thermal Processor

기상 자기조립박막 증착시스템

Vapor Self-Assembled Monolayer deposition system

기판 절단 시스템

Substrate dicing saw system

기판그라인딩시스템

Substrate grinding system

기판두께측정장비

Substrate measurement system

기판접합용 정렬기

Substrate bond aligner

기판폴리싱시스템

Substrate polishing system

나노임프린팅 시스템

Nano-imprinting lithography system

다기능 전자빔 진공증착 시스템

Multi-functional electron beam evaporation system

다기능직류형이온밀링시스템

다기능직류형이온밀링시스템

다목적 집속이온빔 시스템

Multi-Mode Focused Ion Beam

다목적분석용 주사전자현미경

Field-Emission Scanning Electron Microscopy / EBSD

다목적용 엑스선 회절분석기

X-ray Diffraction

단결정 엑스선 회절분석기

Single Crystal X-ray Diffraction

단차측정기

Surface profiling measuring system

대형시편용 원자현미경

Large Area Atomic Force Microscopy

레이저 라이터

Laser writer

레이저마킹시스템

substrate Marking system

마스크 매엽식 세정장치

Mask Single Wet Tool

물리적특성 측정장비

Physical Property Measurement System

박막두께측정기

Reflectometer

박막스트레스측정시스템

Film stress measurement system

박막증착시스템

Plasma-enhanced chemical vapor deposition system

반도체분석용 집속이온빔 시스템

Focused Ion Beam System for Semiconductors

배선공정용 화학기상증착장비

배선공정용 화학기상증착장비

비접촉 미세형상 측정기

Optical surface profiler

비정질실리콘증착장비

a-Si PECVD

소자측정분석시스템

Semi Auto probe Station System

수직 열처리 시스템

Vertical Annealing Furnace

수평 열처리 시스템

Horizontal Annealing Furnace

스핀코팅기

spin coater(6inch)

스핀코팅기

spin coater(pieces)

스핀코팅기

manual spin coater_4inch

스핀코팅기(포토레지스트 트랙시스템)

PR track system

시간비행형 이차이온질량분석기

ToF Secondary Ion Mass Spectrometer

실리콘 고준위 식각기

Silicon Deep Reactive Ion Etcher

실리콘 습식식각장비

Si wet etch station

씨모스전용 저압기상증착장비

씨모스전용 저압기상증착장비

엑스선 광전자분광기 (G2)

X-ray photoelectron spectrometer (G2)

엘립소메타 시스템

Ellipsometer system

열 원자층 증착 시스템

thermal atomic layer depositon system

열확산로시스템

Diffusion furnace

온도가변 실험용 엑스선 회절분석기

X-ray Diffraction for Variable Temperature

원자현미경

Atomic Force Microscopy

웨이퍼 건조기

Spin Rince Dryer

웨이퍼 건조기

Spin Rince Dryer

웨이퍼식각기(Cleaning)

cleaning wet station

웨이퍼식각기(Etching)

etch wet station

자동마스크정렬기

Automatic mask aligner

자외선/가시광선/근적외선 분광광도계

UV-Vis NIR

자화율 측정 장치

Magnetic Property Measurement System

저온플라즈마증착시스템

저온플라즈마증착시스템

저진공 전자현미경

Low Vacuum Microscope

적외선분광기 현미경

FT-IR Microscopy

전계방사형 전자현미경

Field-Emission Scanning Electron Microscopy

전계방사형 투과전자현미경

300kV Field-Emission Transmission Electron Microscopy

전기도금장비

Electroplating machine

전자빔리소그래피 시스템

Electron beam lithography system

전자빔묘화공정시스템

전자빔묘화공정시스템

전자빔진공증착기

E-beam Evaporation system

절연막 스퍼터링 시스템

Dielectric sputtering system

절연막 식각기

Dielectric Etcher system

접촉각 측정 시스템

Contact angle measurement system

제논 릴리즈 식각시스템

Xenon Release etcher system

중전류형 이온주입장비

Medium current ion implanter

진공건조기

Vacuum Oven

질화알루미늄 스퍼터링 시스템

AlN Sputtering System

초고분해능 전계방사 주사전자현미경

High Resolution Field-Emission Scanning Electron Microscopy

초고분해능 투과전자현미경

300kV UHR Cs-Corrected Field-Emission Transmission Electron Microscopy

초음파탐상이미징장비

Scanning Acoustic Microscope

축소미세노광장비

I-line stepper

클러스터 건식 식각기

Cluster Dry etcher

패럴린 코팅 시스템

Parylene coating system

패턴 임계치수측정 주사전자현미경

패턴 임계치수측정 주사전자현미경

포클열확산로 시스템

POCl3 diffusion furnace system

포토레지스트트랙시스템

Photoresist Track System

포토습식세정장비

Photo Wet Station

폴리실리콘화학기상증착장비

(Doped) Poly-Si LPCVD

표면저항측정시스템

Sheet Resistance Measurement System

플라즈마 원자층 증착 시스템

Plasma Atomic Layer Deposition System

플라즈마증착시스템

Plasma deposition system

핵자기공명분광기

FT Nuclear Magnetic Resonance Spectrometry

화학기계연마시스템

화학기계연마시스템

화학기상증착시스템

LPCVD system

화합물반도체 식각장비

Compound semiconductor etching system

I-line축소노광기

I-line stepper

20kw RF 플라즈마 나노분말 제조장비

20kw RF 플라즈마 나노분말 제조장비

2축 필름압출시스템

2축 필름압출시스템

3D프린팅시스템

3D프린팅시스템

건식분말제조장비

건식분말제조장비

고배율 현미경

고배율 현미경

고분자 저온복합시험기

고분자 저온복합시험기

고분해능 글로우방전 질량분석기

고분해능 글로우방전 질량분석기

고분해능 X선 형광분석시스템

고분해능 X선 형광분석시스템

고점도믹싱시스템

고점도믹싱시스템

고정밀 분산도 측정 분석기

고정밀 분산도 측정 분석기

고차단투습도측정기 1 (Model 1)

고차단투습도측정기 1 (Model 1)

고차단투습도측정기 2 (Model 3)

고차단투습도측정기 2 (Model 3)

고효율 미세 분급/분산 장비

고효율 미세 분급/분산 장비

광특성프로파일러

광특성프로파일러

그라인딩 건식 분쇄/분급 나노 분말 제조 장비

그라인딩 건식 분쇄/분급 나노 분말 제조 장비

나노 프로브 워크스테이션

나노 프로브 워크스테이션

나노경도/스크레치 테스터

나노경도/스크레치 테스터

나노박막두께측정기

나노박막두께측정기

나노분광분석용주사전자현미경

나노분광분석용주사전자현미경

나노분석주사전자현미경

나노분석주사전자현미경

나노소재복합화장비

나노소재복합화장비

나노입자복합화장비-신형로터

나노입자복합화장비-신형로터

내열내구성검사기

내열내구성검사기

니더

니더

다공성 나노입자 기공률 측정기

다공성 나노입자 기공률 측정기

다목적측정및분석현미경

다목적측정및분석현미경

대면적 이온 밀링시스템

대면적 이온 밀링시스템

대면적표면굴곡측정기

대면적표면굴곡측정기

동적기계특성분석기

동적기계특성분석기

듀얼 이온크로마토그래피

듀얼 이온크로마토그래피

등수압프레스

등수압프레스

디지털 터치 레오미터

디지털 터치 레오미터

레이저 평탄도 측정기

레이저 평탄도 측정기

롤투롤습식코팅시스템

롤투롤습식코팅시스템

롤투롤진공코팅시스템

롤투롤진공코팅시스템

마이크로 라만분광기

마이크로 라만분광기

마이크로 엑스선 형광분석기

마이크로 엑스선 형광분석기

만능물성시험기

만능물성시험기

만능물성시험기 - 90도 박리 점착력 측정기, 시편 변형 분포 이미지 측정, 블루힐4 소프트웨어

만능물성시험기 - 90도 박리 점착력 측정기, 시편 변형 분포 이미지 측정, 블루힐4 소프트웨어

메탈라이징로

메탈라이징로

면저항측정기

면저항측정기

모듈구성부품피로시험장비

모듈구성부품피로시험장비

미세연마장치(FE-SEM측정 시료전처리장비)

미세연마장치(FE-SEM측정 시료전처리장비)

바스켓 밀

바스켓 밀

발광소재 특성평가 시스템

발광소재 특성평가 시스템

복합건조기

복합건조기

복합내구성시험기

복합내구성시험기

복합진동내구시험기

복합진동내구시험기

분자빔박막성장시스템

분자빔박막성장시스템

비드밀

비드밀

비표면적 측정장치

비표면적 측정장치

사진식각공정시스템

사진식각공정시스템

삼중집속이온빔시스템

삼중집속이온빔시스템

상대가스투과도측정기

상대가스투과도측정기

스캐닝음향현미경

스캐닝음향현미경

스크린프린터

스크린프린터

스퍼터링 증착 시스템

스퍼터링 증착 시스템

습식 분쇄/분급 나노 분말 제조 장비

습식 분쇄/분급 나노 분말 제조 장비

습식분말제조장비

습식분말제조장비

시트 컷팅 적층 머신

시트 컷팅 적층 머신

액체크로마토그래프/질량분석기

액체크로마토그래프/질량분석기

엑스선컴퓨터 단층촬영기 - 위상차・암시야 이미지 시스템, 측정검사 소프트웨어

엑스선컴퓨터 단층촬영기 - 위상차・암시야 이미지 시스템, 측정검사 소프트웨어

엑스선컴퓨터단층촬영기

엑스선컴퓨터단층촬영기

열기계분석기

열기계분석기

열분석기

열분석기

열분석기-적외선분광기

열분석기-적외선분광기

열분석기-LN2 공급장치

열분석기-LN2 공급장치

열증착시스템 & Glove box

열증착시스템 & Glove box

오토펀칭머신

오토펀칭머신

웨이퍼세정장비

웨이퍼세정장비

유리표면응력계

유리표면응력계

응력완화시험기

응력완화시험기

이색편광특성프로파일러

이색편광특성프로파일러

이온빔 작동 장비

이온빔 작동 장비

이중 스크류 익스트루더

이중 스크류 익스트루더

이중분석주사전자현미경

이중분석주사전자현미경

이중압출복합재 제조장비

이중압출복합재 제조장비

입도분석기

입도분석기

입자 분산 안정성 측정 장비

입자 분산 안정성 측정 장비

입자강도측정기

입자강도측정기

입자형상분석기

입자형상분석기

자동 습/건식 입도분석기

자동 습/건식 입도분석기

자외선/가시광선 분광기

자외선/가시광선 분광기

자외선/가시광선/근적외선 분광기

자외선/가시광선/근적외선 분광기

적외선흡수분광기

적외선흡수분광기

전계방출형 주사투과전자현미경 & 집속이온빔 장치

전계방출형 주사투과전자현미경 & 집속이온빔 장치

전계방출형주사전자현미경

전계방출형주사전자현미경

전자파 차폐 소재 평가 시스템

전자파 차폐 소재 평가 시스템

절대양자효율측정장비

절대양자효율측정장비

주사탐침현미경

주사탐침현미경

진공탈지로

진공탈지로

첨단 디스플레이 사용성평가 시스템

첨단 디스플레이 사용성평가 시스템

초고온 건조기

초고온 건조기

초고온 진공소성로

초고온 진공소성로

초고주파대역 전자파차폐 측정기

초고주파대역 전자파차폐 측정기

초정밀 나노입자 소결시스템

초정밀 나노입자 소결시스템

태양전지평가시스템

태양전지평가시스템

터치소재 환경분석기

터치소재 환경분석기

터치소재 환경분석기_포터블 파이롤라이저

터치소재 환경분석기_포터블 파이롤라이저

투과도 측정기

투과도 측정기

플라즈마 분말표면개질장비

플라즈마 분말표면개질장비

플라즈마식각장비

플라즈마식각장비

플렉서블 내구 시험기

플렉서블 내구 시험기

플렉서블 내구 시험기 2

플렉서블 내구 시험기 2

후막시트성형기

후막시트성형기

HCI 디바이스 소자 고온열충격 시험장비

HCI 디바이스 소자 고온열충격 시험장비

HCI 디바이스 소자 초정밀 환경신뢰성 시험장비

HCI 디바이스 소자 초정밀 환경신뢰성 시험장비

HCI 디바이스용 부품/소재 열전도 특성 평가시스템

HCI 디바이스용 부품/소재 열전도 특성 평가시스템

HCI 디바이스용 유연기판 신뢰성 평가장비

HCI 디바이스용 유연기판 신뢰성 평가장비

HCI 부품소재 발열측정 공초점 열반사현미경

HCI 부품소재 발열측정 공초점 열반사현미경

IRHD 경도계

IRHD 경도계

X선회절분광기

X선회절분광기

Power Source

Pulse Generator

Power Supply by 2 Items(김수환)

Logic Analyzer(전동석)

Power Supply by 3 Items

Data Generator

Logic Analyzer(16903A)

DC Power Supply

DC Electronic Load

Digital Hot Plates

Multi-Tools

Source Meter Dual Channel

DC Power Supply(2220G-30-1)

DC Power Supply(2230G-60-3)

Universal Frequency Counter / Timer

Femto/Pico Ammeter

Multimeter

Mixed Signal Oscilloscope(전동석)

Power Supply by 2 Items

DC Power Analyzer

Lightwave Measurement System

LAN/GPIB gateway

ENA Network Analyzers

Wide-Bandwidth Oscilloscopes

Waveform Generator

AC Power Supply

Stereo Microscope

Oscilloscope

Logic Analyzer(김수환)

Mixed Signal Oscilloscope(최우석)

Digital Phosphor Oscilloscope

Programmable Power Supply(1호기)

Digital Phosphor Oscilloscope Datasheet(1호기)

Logic Analyzer(TLA714)

Waveform Generator Dual Channel

Power Supply by 2 Items(전동석)

Programmable Power Supply(2호기)

Digital Phosphor Oscilloscope Datasheet(2호기)

Programmable Power Supply(3호기)

RIE Etcher(화합물,08)

RIE Etcher (02) (화합물)

2D 표면 단차 측정기 (01)

C-Surface Profiler

2D 표면 단차 측정기 (02)

2D Surface Profiler (02)

2D 표면 단차 측정기 (03)

Surface Profiler

2D 표면 단차 측정기 (2)

C-Surface Profiler (02)

3D 표면 단차 측정기 (02)

3D Surface Profiler (02)

4-포인트 프로브 (02)

4-Point Probe (01)

4-포인트 프로브 (03)

C-4-Point Probe (01)

광학 현미경 (01)

Optical Microscope (01)

광학 현미경 (02)

Optical Microscope (02)

광학 현미경 (03)

Optical Microscope (03)

광학 현미경 (04)

Optical Microscope (04)

광학 현미경 (05)

Optical Microscope (05)

광학 현미경 (06)

Optical Microscope (06)

금속 산화물 스퍼터 (01) SNTEK

Metal-Oxide Sputter (01)

금속 산화물 스퍼터 (02) SRN sputter 2

Metal-Oxide Sputter (02)

금속 스퍼터 (01)

Metal Sputter (03)

금속 스퍼터 (01)

Metal Sputter (01)

금속 스퍼터 (02)

Metal Sputter (02)

금속 스퍼터 (04)

Metal Sputter (04)

깊이 측정 현미경

Depth Measurement Microscope

네트워크분석기 (01)

네트워크 분석기

레이져 홀로그래피 시스템

Laser Holography System

리플렉토미터(Nanospec)

Reflectometer (01)

리플렉토미터(Nanospec)

Reflectometer (02)

리플렉토미터(Nanospec) (01)

C-Reflectometer

마스크리스 리소그래피 시스템 (01)

Maskless lithography system (01)

마스크리스 리소그래피 시스템 (02)

Maskless lithography system (02)

면저항 측정기

4-Point Probe (02)

면저항 측정기

C-4-Point Probe (02)

면저항 측정기

4-Point Probe (03)

반도체 소자 특성 측정기 (01)

SPA-IV (01)

반도체 소자 특성 측정기 (02)

SPA-IV (02)

반도체 소자 특성 측정기 (03)

SPA-IV (03)

반도체 소자 특성 측정기 (04)

SPA-IV/CV (01)

반도체 소자 특성 측정기 (05)

SPA-IV/CV (02)

비트에러율테스터 (01)

고성능비트에러율테스터 (01)

비트에러율테스터 (02)

고성능비트에러율테스터 (02)

비트에러율테스터 (03)

고성능비트에러율테스터 (03)

슈퍼 잉크젯 프린터

Super Inkjet Printer

스트레스 측정기

Stress Measurement

스펙트럼 분석기 (01)

스펙트럼 분석기 (01)

스펙트럼 분석기 (02)

스펙트럼 분석기 (02)

스피너 (03)

Spin Coater (05) (E-BEAM)

스핀 코터 (01)

Spin Coater (01)

스핀 코터 (02)

Spin Coater (04)

스핀 코터 (05)

Spin Coater (02)

스핀 코터 (06)

Spin Coater (03)

스핀 코터 (06)

Spin Coater (06)

씨모스 금속 스퍼터 (01) Endura 2

C-Metal Sputter (01)

씨모스 원자층 증착 장비 (01)

C-ALD (01)

씨모스 원자층 증착 장비 (02)

C-ALD (02)

씨모스 원자층 증착 장비 (03)

C-ALD (03)

씨모스 원자층 증착 장비 (04)

C-ALD (04)

얼라이너 (01)

Aligner (01)

얼라이너 (02)

Aligner (02)

에너지 분산 X선 분광기

EDS

엘립소미터 (01)

C-Ellipsometer (01)

엘립소미터 (02)

C-Ellipsometer (02)

엘립소미터 (03)

Ellipsometer

열 금속 증착 장비 (01)

Thermal Evaporator

열저항 측정기(T3STER)

T3STER

오실로스코프 (01)

오실로스코프 (01)

오실로스코프 (02)

오실로스코프 (02)

오실로스코프 (03)

오실로스코프(03)

와이어 볼 본딩 장비

Wire Ball Bonder

원자 힘 현미경 (01)

AFM (01)

원자 힘 현미경 (02)

AFM (02)

원자층 증착 장비 (04)

ALD (04)

원자층 증착 장비 (01)

ALD (01)

원자층 증착 장비 (02)

ALD (02)

원자층 증착 장비 (03)

ALD (03)

웨이퍼 마커

Wafer Marker

웨이퍼 절삭기 (02)

Dicing Saw (02)

웨이퍼 절삭기 (03)

Dicing Saw (03)

유도 결합 플라즈마 식각 장비 (01)

C-ICP Poly Si Etcher (01)

유도 결합 플라즈마 식각 장비 (02)

C-ICP Poly Si Etcher (02)

유도 결합 플라즈마 식각 장비 (03)

C-ICP Metal Etcher

유도 결합 플라즈마 식각 장비 (04)

C-ICP Dielectric Etcher

유도 결합 플라즈마 식각 장비 (05)

Deep Si Etcher (01)

유도 결합 플라즈마 식각 장비 (06)

ICP HT Metal Etcher (02)

유도 결합 플라즈마 식각 장비 (08)

ICP Dielectric Etcher (01)

유도 결합 플라즈마 식각 장비 (13)

Deep Si Etcher (02)

의뢰자 호출

의뢰자 호출

임계치수 측정 주사전자현미경

C-CD-SEM

전계 방출형 주사전자현미경 (01)

FE-SEM (01)

전계 방출형 주사전자현미경 (02)

FE-SEM (02)

전자빔 금속 증착 장비 (01)

E-Gun Evaporator (01)

전자빔 금속 증착 장비 (02)

E-Gun Evaporator (02)

전자빔 리소그래피

E-Beam Lithography

중전류 이온주입 장비

Ion Implanter

파장 분산 엑스선 형광 분석기

WD-XRF

패럴린 막 증착 장비

Parylene Deposition System

퍼니스 (01)

C-Furnace (01)

퍼니스 (02)

C-Furnace (02)

포토 레지스트 8종

Photo Resist_8 Type

플라즈마 화학기상증착기 및 자기 강화 반응성 이온 식각기 (01)

PECVD/RIE System

홀 효과 측정기

Hall Effect Measurement

화학적 건식 식각 장비

C-Chemical Dry Etcher

Acid-Solvent-Wet Station (21)

Wet Station (21) (Acid-Solvent)

Acid-Wet Station (01)

Wet Station (01) (Acid)

Acid-Wet Station (02)

Wet Station (02) (Acid)

Acid-Wet Station (03)

Wet Station (03) (Acid)

Acid-Wet Station (04)

Wet Station (04) (Acid)

Acid-Wet Station (12)

Wet Station (12) (Acid)

Acid-Wet Station (13)

Wet Station (13) (Acid)

Acid-Wet Station (14)

Wet Station (14) (Acid)

Acid-Wet Station (15)

Wet Station (15) (Acid)

Acid-Wet Station (16)

Wet Station (16) (Acid)

Acid-Wet Station (17)

Wet Station (17) (Acid)

Acid-Wet Station (WA-5)

Wet Station (05) (Acid)

ARBITRARY WAVEFROM GENERATOR (01)

Arbitrary Wavefrom Generator

BMR ICP Etcher (07)

ICP Compound Etcher

C-Furnace (03)

C-Furnace (03)

C-Furnace (04)

C-Furnace (04)

CMP (02)

C-CMP (02)

HDPCVD 1호기(SiO2)

C-HDPCVD (01)

HDPCVD 2호기(SiO2)

C-HDPCVD (02)

HW-CVD [α-Si, SiN]

HWCVD

ICP Dielectric Etcher (02)

ICP Dielectric Etcher (02)

ICP Metal Etcher (01)

ICP Metal Etcher (01)

ICP Metal Etcher (03)

ICP Metal Etcher (03)

i-line 스테퍼

C-i-line Stepper

In-Line 임계치수 측정 주사전자현미경

CD-SEM

LOGIC ANALYZER (01)

LOGIC ANALYZER (01)

LOGIC ANALYZER (02)

LOGIC ANALYZER (02)

LPCVD 1호기 [α-Si, MTO, SiN]]

C-LPCVD (01)

LPCVD 3호기 [Poly-si, SiN]

C-LPCVD (03)

LPCVD(리드)

C-LPCVD (04)

MEMS Furnace

Furnace

Mini Furnace

Mini Furnace

OXFORD PECVD [SiO2, Si3N4]

PECVD

P5000 4호기 [TEOS-CVD, W-CVD, SiO/SiN ETCH]

C-PECVD/RIE System

P5000 5호기 [W]

C-CVD(W) System

PR 건식 애셔 (01)

C-Asher

PR 건식 애셔 (02)

Asher (03)

PR 트랙 장비 (01)

C-Track

PR 트랙 장비 (02)

Track

PR 플라즈마 애셔 (1)

Asher (01)

PR 플라즈마 애셔 (2)

Asher (02)

PULSE GENERATOR (01)

Pulse Generator

RIE Etcher (신소재,09)

RIE Etcher (01) (신소재)

RTA (04)

RTA (04)

RTA (급속열처리장치_CMOS RTA)

C-RTA

RTA (급속열처리장치_non CMOS)

RTA (02)

RTP (급속열처리장치_전기로)

C-RTP

Solvent-Wet Staion (06)

Wet Station (06) (Solvent)

Solvent-Wet Staion (08)

Wet Station (08) (Solvent)

Solvent-Wet Staion (09)

Wet Station (09) (Solvent)

Solvent-Wet Staion (10)

Wet Station (10) (Solvent)

Solvent-Wet Staion (18)

Wet Station (18) (Solvent)

Solvent-Wet Staion (20)

Wet Station (20) (Solvent)

Solvent-Wet Staion (24)

Wet Station (24) (Solvent)

Spin Rinse Dryer (1)

Spin Rinse Dryer (01)

Spin Rinse Dryer (10)

Spin Rinse Dryer (10)

Spin Rinse Dryer (11)

Spin Rinse Dryer (11)

Spin Rinse Dryer (12)

Spin Rinse Dryer (12)

Spin Rinse Dryer (2)

Spin Rinse Dryer (02)

Spin Rinse Dryer (3)

Spin Rinse Dryer (03)

Spin Rinse Dryer (4)

Spin Rinse Dryer (04)

Spin Rinse Dryer (5)

Spin Rinse Dryer (05)

Spin Rinse Dryer (6)

Spin Rinse Dryer (06)

Spin Rinse Dryer (7)

Spin Rinse Dryer (07)

Spin Rinse Dryer (8)

Spin Rinse Dryer (08)

Spin Rinse Dryer (9)

Spin Rinse Dryer (09)

STI CMP (01)

C-CMP (01)

VECTOR SIGNAL GENERATOR (01)

Vector Signal Generator

감광제 제거기

Plasma PR Stripper

건식 식각장치

Dielectric RIE

고단차피복 박막증착기

HSC Sputter

고주파 스퍼터링 시스템

RF Sputter

급속 열처리 시스템

RTP

기판절단장치

Dicing Saw#2

깊은준위 건식식각 장치

Deep Si Etcher

레이저 리소그래피

Laser lithography

마스크 정렬노광기

Photolitho_MA6

메탈 스퍼터링 시스템

DC Sputter

미세패턴 정렬노광기

Photolitho_MDA400S

박막 단차 측정기

Surface profiler

박막 두께 측정기

Ellipsometer

박막 두께 측정기

Nano Spec

비접촉식 표면 및 단차 측정기기

Optical surface profiler

쇼트키 전계방출전자현미경과 부착형 이빔리소그래피

E-beam lithography#Attach

습식 세정장치_산

Wet station_Acid

습식 세정장치_염기

Wet station_Alkari

습식 세정장치_유기

Wet station_Solvent

열처리 확산로

Furnace_WET

열처리 확산로

Furnace_DRY

와이어 본더

Wire Bonder

와이어 본더

Wire Bonder#2

용량성 결합 플라즈마 식각장치

CCP etcher

원자층 증착 장비

Atomic Layer Deposition

원자층 증착 장비

Cluster ALD

원자힘 현미경

AFM

유도결합 플라즈마 금속 건식 식각기

Metal ICP RIE#1

유도결합 플라즈마 금속 건식 식각기

Metal ICP RIE#2

유도결합 플라즈마 산화막 건식 식각기

Dielectric ICP RIE

저압 화학기상 박막 증착기

LP CVD_Poly/Nitride

전자빔 금속박막증착 장치

E-beam Evaporator#1

전자빔 금속박막증착 장치

E-beam Evaporator#2

전자선 노광장치 시스템

E-beam lithography#NBL

전자현미경

Normal SEM

테오스 저압화학기상증착기

LP CVD_TEOS

페럴린 코팅 시스템

Auto parylene coater

폴리머 건식 식각기

Plasma Treatment System

표면 저항 측정기

4point_probe

프로브 스테이션

Probe station

플라즈마 화학기상 증착기

PE CVD

화학적표면 연마 시스템

CMP

Lapping

Lapping

2차원 단차 측정기

2D Surface Profiler

3차원 형상 측정기

3D Surface Profiler

광학현미경

Microscope with CCD

광학현미경 with UV

Optical Microscope with UV

그라비어 오프셋 롤-투-플레이트 프린터

Gravure-Offset R2P printer

기판세정기

Wet Cleaner

두께측정기

Thickness Measurement System

리버스옵셋 프린터

Reverse Offset Printer

마스크얼라이너

Mask Aligner

면저항 측정기

4-Point Probe System

박막증착장비

Multi Layer Thin Film Deposition System

발광균일도측정시스템

lighting uniformity measurement system

분산 안정성 측정기

Dispersion Stability Analyzer

수명측정시스템

Life Time Measurement System

스크라이버

Scriber

스크린 프린터

Screen Printer

스핀디벨로퍼

Spin Developer

엣쳐/스트리퍼

Etcher/Stripper

유기스트리퍼

Organic Stripper

유기증착 마스크 정렬모듈

Organic Deposition Mask Alignment Module

유기증착기

Organic Evaporator

임피던스 분석기

Impedance Analyzer

입도분석기

Particle Size Analyzer

잉크젯 프린터 for PELD #1

Inkjet Printer for PELD #1

잉크젯 프린터 for PELD #2

Inkjet Printer for PELD #2

잉크젯 프린터(lab #2)

Inkjet Printer(lab #2)

잉크젯 프린터(lab)

Inkjet Printer(lab)

자외선 클리너

UV Cleaner

저온스퍼터 & ICP RIE 복합 클러스터

Low temperature Sputter & ICP RIE Cluster System

점도계

Viscometer

접촉각 측정기

Contact Angle

코터/디벨로퍼

Coater/Developer

플라즈마 강화 원자층 증착기

Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition

플립칩 본더

FlipChip Bonder

항온 건조기

Curing Oven

IVL 측정 시스템

IVL Measurement System

거울 투영 노광장비

Mirror Projection Mask Aligner

고분해능 라만분광분석시스템

High resolution Raman spectrometer system

고성능 집속이온빔 장치

FIB(Focused Ion Beam)

고해상도노광기

Mask Aligner

공기압축기

Air compressor

공조기

Air Handling Unit (AHU)

급속 열처리 시스템 - 보성

Rapid Thermal Annealing - Bosung

급속열처리장치 Ⅰ

Rapid Thermal Annealing Ⅰ

급속열처리장치 Ⅱ

Rapid Thermal Annealing Ⅱ

기판단면연마장치

CMP(Chemical-mechanical polishing)

냉동기

Chiller

네트워크파라미터 분석장비

Network/Parameter Analyzer

두께측정장치(단차측정)

Alpha-Step (Step Height Measurement)

레이저 현미경

Laser microscope

마스크리스 포토리소그래피

Maskless photolithography system

면저항측정장치

4-Point Probe System

반도체검사장비

Probe Station

반도체특성 저온 측정 시스템

Cyostat

스펙트럼 분석기

Spectrum Analyzer

심층이온식각 장비

Deep etcher

엘립소메타

Elipsometer

연마장비

Lapping/Polishing

와이어본더

Wire bonder

와이어본더 장비

Wirebonder

원자간힘현미경

Atomic Force Microscope (AFM)

원자층증착장치

Atomic Layer Deposition

웨이퍼 스크라이버

Wafer Scriber

웨이퍼 트랙

Wafer track

웨이퍼세정장치(산)

Wet Station(acid)

웨이퍼세정장치(유기)

Wet Station(organic)

웨이퍼세정장치(Yellow room)

Wet station(Yellow room)

웨이퍼식각장치(Cl)-타이닉스

Inductively Coupled Plasma/Reactive Ion Etching(Cl)-Tainics

웨이퍼식각장치(Cl)-플라즈마썸

Inductively Coupled Plasma/Reactive Ion Etching(Cl)-Plasma Therm

웨이퍼식각장치(F)-소로나

Inductively Coupled Plasma/Reactive Ion Etching(F)-Sorona

웨이퍼표면연마장치

Chemical Mechanical Planarization

유기금속화학기상증착장치 Ⅰ

Metal Organic Chemical Vapor Deposition Ⅰ

이온 스퍼터 (SEM)

Ion sputter (SEM)

자외-가시선 광학 확산 분광기

Integrating spheres for UV/VIS spectrometer

전자빔 증착 장비 (ULVAC)

E-beam evaporator (ULVAC)

전자빔증착장치

E-beam Evaporator

전자빔증착장치 - KVT

E-beam Evaporator - KVT

주사전자현미경

Field Emission Scanning Electron Microscope

주사전자현미경 - 히타치

Field Emission Scanning Electron Microscope - Hitachi

질소발생장치

N2 generator

플라즈마화학기상증착장치 Ⅱ (BMR)

Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Ⅱ (BMR)

플라즈마화학기상증착장치 I (Oxford)

Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition I (Oxford)

홀 효과 측정기

Hall effect measurement system

DC 스퍼터 시스템

Direct Current Sputtering System

LED 측정 세트

Light Emitting Diode Measurement Set

PR 코팅기

Spin Coater

PR제거장치

Photo Resist Asher(Low Pressure Plasma System)

RF 스퍼터 시스템 Ⅱ

Radio Frequency Sputtering System Sputtering System Ⅱ

RLC 측정기

Resistor Inductor Capacitor Tester

4침법측정기

4 point probe system

고압분산기

High Pressure Homogenizer

비표면적분석기

BET Surface area analyzer

열분석기

TGADSC

전계방사형 주사전자현미경

FE-SEM(Field Emission-Scanning Electron Microscope)

점도계

Viscometer

호모게나이저

Homogenizer

DC열플라즈마시스템

DC열플라즈마시스템

ED-XRF

ED-XRF

Raman 분석기

HEDA Raman Microscope Spectrometer

RF열플라즈마시스템

RF열플라즈마시스템

X선 회절 분석기

XRD(X-Ray Diffraction)

4-Point probe

4-Point probe

경사노광기

경사노광기

Alpha Step

Alpha Step

AOE Etcher

AOE Etcher

Deep Trench RIE 1

Deep Trench RIE 1

Deep Trench RIE 2

Deep Trench RIE 2

E-Beam Evaporator 1

E-Beam Evaporator 1

E-Beam Evaporator 2

E-Beam Evaporator 2

E-Beeam lithography

E-Beeam lithography

Electroforming Machine(Cu)

Electroforming Machine(Cu)

Electroforming Machine(Ni)

Electroforming Machine(Ni)

E-SEM

E-SEM

EVG Aligner

EVG Aligner

EVG Wafer Bonder

EVG Wafer Bonder

Furnace 2

Furnace 2

LPCVD 5(Poly)

LPCVD 5(Poly)

M2000 Laser 가공기

M2000 Laser 가공기

MA6 1

MA6 1

MA6 2

MA6 2

Maskless Aligner

Maskless Aligner

Microwave Plasma Asher

Microwave Plasma Asher

Multi Sputter

Multi Sputter

Nanospec

Nanospec

Others

Others

OxfordEtcher(화합물)

OxfordEtcher(화합물)

Oxford-ICP 2

Oxford-ICP 2

Parylene Coater

Parylene Coater

PECVD 2

PECVD 2

RIE 2

RIE 2

RIE 3

RIE 3

Spin coater 1

Spin coater 1

Spin coater 2

Spin coater 2

Spin coater 3

Spin coater 3

Spin Rinse Dryer

Spin Rinse Dryer

Wet Station(ACID)

Wet Station(ACID)

Wet Station(KOH)

Wet Station(KOH)

AES(OJ)

AES(OJ)

AFM (XE-100)

AFM (XE-100)

APT (Atom Probe Tomography)

APT (Atom Probe Tomography)

ERD

ERD

FE-SEM(Nova-SEM)

FE-SEM(Nova-SEM)

FIB (G4 HX)

FIB (G4 HX)

Implanter(0.4/2.0/6.0 MV)

Implanter(0.4/2.0/6.0 MV)

MEIS

MEIS

Nano-Indenter

Nano-Indenter

RBS

RBS

TEM (Tecnai)

TEM (Tecnai)

XPS_UPS(Nexsa)

XPS_UPS(Nexsa)

XRD(박막-T1)

XRD(박막-T1)

XRF(F2)

XRF(F2)

110GHz modeling sys.

110GHz modeling sys.

3D Laser Profiler

3D Laser Profiler

4 point probe

4 point probe

67GHz modeling sys.

67GHz modeling sys.

8 inch Wafer Automatic Sheet Resistance Measurement System

8 inch Wafer Automatic Sheet Resistance Measurement System

구면수차보정 투과전자현미경

Analytic STEM

리프트오프용 이빔증착기

리프트오프용 이빔증착기

초고주파 플라즈마 에셔장비(Microwave Plasma Asher)

초고주파 플라즈마 에셔장비(Microwave Plasma Asher)

투과전자현미경

HR-TEM II

Acid / Organic wet station

Acid / Organic wet station

Acid Wet-Bench(R&D)

Acid Wet-Bench(R&D)

Acid Wet-station(산업화)

Acid Wet-station(산업화)

Acid Wet-station(R&D)

Acid Wet-station(R&D)

AFM I -> FC-AM30으로 변경

AFM I -> FC-AM30으로 변경

AFM I, II (model: XE100, Park systems)

AFM I, II (model: XE100, Park systems)

AFM I, II (model: XE100, Park systems)

AFM I, II (model: XE100, Park systems)

AFM III (model: XE150, 6인치 가능)

AFM III (model: XE150, 6인치 가능)

Alkali Wet-Bench(R&D)

Alkali Wet-Bench(R&D)

Alkali Wet-station(foundry)

Alkali Wet-station(foundry)

Alkali Wet-station(R&D)

Alkali Wet-station(R&D)

Asher(DAS2000)

Asher(DAS2000)

Atomic Layer Deposition - Insulators

Atomic Layer Deposition - Insulators

Atomic Layer Deposition - Metals

Atomic Layer Deposition - Metals

Au Plating Machine II (backside)

Au Plating Machine II (backside)

Auto Precision Grinding and Polishing System

Auto Precision Grinding and Polishing System

Auto Wet Station

Auto Wet Station

Automated Mask Aligner I

Automated Mask Aligner I

Automated Mask Aligner II

Automated Mask Aligner II

Automated Mask Aligner IV (8 inch)

Automated Mask Aligner IV (8 inch)

Automatic Elipsometer

Automatic Elipsometer

Box Furnace

Box Furnace

Breaker

Breaker

CD SEM

CD-SEM I (9260)

CD-SEM II (8820)

CD-SEM II (8820)

CL(Cathodoluminescence) System

CL(Cathodoluminescence) System

CL(Cathodoluminescence) System -> FC-CL10으로 변경

CL(Cathodoluminescence) System -> FC-CL10으로 변경

Contact Aligner I (Manual)

Contact Aligner I (Manual)

Contact Aligner II (Manual)

Contact Aligner II (Manual)

Contact Aligner VIII

Contact Aligner VIII

Convection oven I

Convection oven I

Convection oven II

Convection oven II

Cu & Ni Plating Machine (R&D)

Cu & Ni Plating Machine (R&D)

Cu CMP

Cu CMP

Cu Plating Machine for Damascene

Cu Plating Machine for Damascene

DC measurement system for high power devices

DC measurement system for high power devices

Deep etcher VI(R&D)

Deep etcher VI(R&D)

Defect-Review SEM

Defect-Review SEM

Develop Wet-Bench(Litho)

Develop Wet-Bench(Litho)

Dicing Machine I

Dicing Machine I

Dicing Machine II

Dicing Machine II

Dicing Machine III

Dicing Machine III

Dicing Machine IV

Dicing Machine IV

Die-bonder (Back-end)

Die-bonder (Back-end)

Doping profiler(ECV) -> FE-DP10 변경

Doping profiler(ECV) -> FE-DP10 변경

E-beam curing machine

E-beam curing machine

E-beam evaporator (산업화) I

E-beam evaporator (산업화) I

E-beam evaporator (산업화) II

E-beam evaporator (산업화) II

E-beam evaporator (R&D) I

E-beam evaporator (R&D) I

E-beam evaporator (R&D) III

E-beam evaporator (R&D) III

E-beam evaporator II (R&D)

E-beam evaporator II (R&D)

E-beam lithography I (9300)

E-beam lithography I (9300)

E-beam lithography II (6000)

E-beam lithography II (6000)

Electrochemical CV Profiler

Electrochemical CV Profiler

Endura sputter

Endura sputter

Evatec sputter

Evatec sputter

FE SEM I

FE SEM I

FE SEM II

FE SEM II

FE SEM II -> FC-SM20으로 변경

FE SEM II -> FC-SM20으로 변경

FE SEM III

FE SEM III

FE SEM IV

FE SEM IV

FIB Ⅲ (model : Helios 5 UX, Thermofisher)

FIB Ⅲ (model : Helios 5 UX, Thermofisher)

FIB I (model: Nova 600, FEI사)

FIB I (model: Nova 600, FEI사)

FIB II (model: Quanta 3D FEG, FEI)

FIB II (model: Quanta 3D FEG, FEI)

FIB->FC-FI10으로 변경

FIB->FC-FI10으로 변경

FTIR

FTIR

Furnace

Furnace

Hall effect Measurement System

Hall effect Measurement System

Hall Measurement System -> FE-HA10 변경

Hall Measurement System -> FE-HA10 변경

HDP-CVD

HDP-CVD

HDP-CVD (R&D)

HDP-CVD (R&D)

Horizontal Grinding M/C

Horizontal Grinding M/C

Hot Plate Baker I

Hot Plate Baker I

Hot Plate Baker II

Hot Plate Baker II

ICP etcher (산업화) I

ICP etcher (산업화) I

ICP etcher (산업화) II

ICP etcher (산업화) II

ICP etcher (산업화) III

ICP etcher (산업화) III

ICP etcher I(R&D)

ICP etcher I(R&D)

ICP etcher II(R&D)

ICP etcher II(R&D)

ICP etcher III(R&D)

ICP etcher III(R&D)

ICP etcher IV(R&D)_DRIE

ICP etcher IV(R&D)_DRIE

ICP PR asher I(foundry)

ICP PR asher I(foundry)

ICP PR asher II(foundry)

ICP PR asher II(foundry)

ICP PR asher(R&D)

ICP PR asher(R&D)

ICP PR asher(R&D)

ICP PR asher(R&D)

I-line Stepper II(양자팹)

I-line Stepper II

Insulator / Si Etcher

Insulator / Si Etcher

Ion Coater

Ion Coater

KrF Stepper

KrF Stepper

Laminating Machine

Laminating Machine

Lapping and Polishing M/C

Lapping and Polishing M/C

Laser Lift-off

Laser Lift-off

Laser Scriber

Laser Scriber

Liftoff Machine

Liftoff Machine

Lift-Off Wet-Bench(R&D)

Lift-Off Wet-Bench(R&D)

LIV System

LIV System

l-line Stepper

l-line Stepper

Mask Cleaner

Mask Cleaner

MBE (As)

MBE (As)

MBE (N)

MBE (N)

Metal Etcher

Metal Etcher

Microscope II

Microscope II

Microscope IV

Microscope IV

Microscope VI (Auto-Loader)

Microscope VI (Auto-Loader)

Microwave Asher (Dual)

Microwave Asher (Dual)

Microwave asher (foundry): Dual

Microwave asher (foundry): Dual

Microwave asher (foundry): Dual

Microwave asher (foundry): Dual

Mini Furnace

Mini Furnace

MOCVD (epi) I

MOCVD (epi) I

MOCVD (epi) II

MOCVD (epi) II

MOCVD -> FE-MC10 변경

MOCVD -> FE-MC10 변경

MOCVD(epi) Ⅵ

MOCVD(epi) Ⅵ

MOCVD(epi) III

MOCVD(epi) III

MOCVD(epi) IV

MOCVD(epi) IV

MOCVD(epi) V

MOCVD(epi) V

MOCVD(epi) VII

MOCVD(epi) VII

MultiPrep

MultiPrep

Nano Imprint

Nano Imprint

Non-contact sheet resistance

Non-contact sheet resistance

Non-contact sheet resistance -> FE-SR10 변경

Non-contact sheet resistance -> FE-SR10 변경

Optical Thickness Measure System

Optical Thickness Measure System

Organic Wet-Bench(Litho)

Organic Wet-Bench(Litho)

Organic Wet-Bench(R&D)

Organic Wet-Bench(R&D)

Organic Wet-station(foundry)

Organic Wet-station(foundry)

Organic Wet-station(Litho)

Organic Wet-station(Litho)

Organic Wet-station(R&D)

Organic Wet-station(R&D)

Overlay Metrology System

Overlay Metrology System

Parameter analyzer I (FC-PS30통합)

Parameter analyzer I (FC-PS30통합)

Parameter analyzer II (FC-PS30으로통합)

Parameter analyzer II (FC-PS30으로통합)

Pattern Design Tool

Pattern Design Tool

PECVD (산업화) II

PECVD (산업화) II

PECVD (산업화) III_P5000

PECVD (산업화) III_P5000

PECVD I

PECVD I

Photoluminescence

Photoluminescence

PIPS I

PIPS I

PIPS II

PIPS II

PL mapper -> FE-PL10 변경

PL mapper -> FE-PL10 변경

Probe station I (FC-MO20으로통합)

Probe station I (FC-MO20으로통합)

Probe station II (FC-MO10으로통합)

Probe station II (FC-MO10으로통합)

Probe station III (DC)

Probe station III (DC)

Prober

Prober

Rapid Thermal Process System

Rapid Thermal Process System

RF Noise Parameter Measurement

RF Noise Parameter Measurement

RF Power Measurement System

RF Power Measurement System

RIE (산업화)

RIE (산업화)

RIE II (산업화)_P5000

RIE II (산업화)_P5000

RTA (R&D)

RTA (R&D)

RTA II

RTA II

Scanning PL

Scanning PL

Scribing and Breaking M/C

Scribing and Breaking M/C

SiC Etcher

SiC Etcher

Solar simulator

Solar simulator

Spectrophotometer

Spectrophotometer

Spin Coater ll

Spin Coater ll

Spin Etcher

Spin Etcher

SPM Wet-station(R&D)

SPM Wet-station(R&D)

Spray Developer

Spray Developer

Sputter (R&D I)

Sputter (R&D I)

Sputter System (Batch)

Sputter System (Batch)

Sputter System (Cluster)

Sputter System (Cluster)

Sputter(E5500)

Sputter(E5500)

Stress Measurement System

Stress Measurement System

Surface Scan/Profiler

Surface Scan/Profiler

Temperature and Humidity Tester

Temperature and Humidity Tester

Test & Analysis

Test & Analysis

Thermal Shock

Thermal Shock

Time Correrated Single Photon Counting System

Time Correrated Single Photon Counting System

Track I (2-3 inch)

Track I (2-3 inch)

Track II (4-6 inch)

Track II (4-6 inch)

Track III (4-6 inch)

Track III (4-6 inch)

Track IV (4-6 inch)

Track IV (4-6 inch)

Track V (8inch)

Track V (8inch)

Track VI (8inch)

Track VI (8inch)

Track VII(4-6inch)

Track VII(4-6inch)

UV/VIS/IR/THz Spectroscopic Source

UV/VIS/IR/THz Spectroscopic Source

W / Oxide CMP

W / Oxide CMP

W / plasma CVD

W / plasma CVD

Wafer Backside Cleaner

Wafer Backside Cleaner

Wafer bonder (R&D)

Wafer bonder (R&D)

Wafer Bonding System

Wafer Bonding System

Wafer Defect Inspection

Wafer Defect Inspection

Wafer Laser Marker

Wafer Laser Marker

Wafer surface? particle counter

Wafer surface? particle counter

Wire-bonder (Back-end)

Wire-bonder (Back-end)

XPS

XPS

XRD

XRD

XRD -> FE-XD10 변경

XRD -> FE-XD10 변경

XRF

XRF

XRF

XRF

XRF

XRF

4-point Probe #1

4-point Probe #1

4-point Probe #2

4-point Probe #2

외부 장비

외부 장비

CD-SEM

CD-SEM

Contact aligner

Contact aligner

Contact Aligner (Operator Support)

Contact Aligner (Operator Support)

Dry Etcher #3_Non metal_A_Chamber

Dry Etcher #3_Non metal_A_Chamber

Dry Etcher #3_Non metal_B_Chamber

Dry Etcher #3_Non metal_B_Chamber

Dry Etcher #5_metal_B_Chamber

Dry Etcher #5_metal_B_Chamber

Dry Etcher #5_metal_D_Chamber

Dry Etcher #5_metal_D_Chamber

Dry Etcher #6_metal_A_Chamber

Dry Etcher #6_metal_A_Chamber

Dry Etcher #6_metal_B_Chamber

Dry Etcher #6_metal_B_Chamber

Dry Etcher #6_metal_C_Chamber

Dry Etcher #6_metal_C_Chamber

E-Beam Evaporator

E-Beam Evaporator

ETRI Engineering Machine (개별 R&D장비)

ETRI Engineering Machine (개별 R&D장비)

FE-SEM

FE-SEM

Film Measurement #1

Film Measurement #1

Furnace 11_metal

Furnace 11_metal

Furnace 12_Non metal

Furnace 12_Non metal

Furnace 13_Non metal

Furnace 13_Non metal

Furnace 14_Non metal

Furnace 14_Non metal

Furnace 21_Non metal

Furnace 21_Non metal

Furnace 22_Non metal

Furnace 22_Non metal

Furnace 23_Non metal

Furnace 23_Non metal

High Ion Implanter

High Ion Implanter

ICP Dry Etcher_Non metal

ICP Dry Etcher_Non metal

Ion Implanter #3

Ion Implanter #3

ITO Deposition (Operator Support)

ITO Deposition (Operator Support)

Laser Marking

Laser Marking

Long Scan Profiler

Long Scan Profiler

Low Temp PECVD (Operator Support)

Low Temp PECVD (Operator Support)

LPCVD 24_Non metal

LPCVD 24_Non metal

LPCVD 31_Non metal

LPCVD 31_Non metal

LPCVD 32_Non metal

LPCVD 32_Non metal

LPCVD 33_Non metal

LPCVD 33_Non metal

LPCVD 34_Non metal

LPCVD 34_Non metal

Microscope #1

Microscope #1

Oven #1

Oven #1

Oven #2

Oven #2

Particle Counter

Particle Counter

PECVD #2_metal_A_Chamber (Oxide)

PECVD #2_metal_A_Chamber (Oxide)

PECVD #2_metal_B_Chamber (BPSG, TEOS)

PECVD #2_metal_B_Chamber (BPSG, TEOS)

PECVD #2_metal_C_Chamber (Nitride, Oxynitride)

PECVD #2_metal_C_Chamber (Nitride, Oxynitride)

PECVD #5_metal_A_Chamber (Oxide, Nitride)

PECVD #5_metal_A_Chamber (Oxide, Nitride)

PR Strip #1

PR Strip #1

PR Strip #2_Non metal_PM1 Chamber

PR Strip #2_Non metal_PM1 Chamber

PR Strip #2_Non metal_PM2 Chamber

PR Strip #2_Non metal_PM2 Chamber

PR Strip #3_Non metal

PR Strip #3_Non metal

Projection aligner

Projection aligner

Rapid Thermal Anneal

Rapid Thermal Anneal

SOG Coater

SOG Coater

Spectroscpic Ellipsometer #3

Spectroscpic Ellipsometer #3

Sputter #1_B_Chamber (Mo)

Sputter #1_B_Chamber (Mo)

Sputter #1_C_Chamber (Al, Ni, Cr)

Sputter #1_C_Chamber (Al, Ni, Cr)

Sputter #2_A2_Chamber (RF Clean)

Sputter #2_A2_Chamber (RF Clean)

Sputter #2_A3_Chamber (AlSi)

Sputter #2_A3_Chamber (AlSi)

Sputter #2_A5_Chamber (Ti, TiN)

Sputter #2_A5_Chamber (Ti, TiN)

Sputter #2_A6_Chamber (Alloy)

Sputter #2_A6_Chamber (Alloy)

Sputter #3_B_Chamber (TiW)

Sputter #3_B_Chamber (TiW)

Sputter #3_C_Chamber (AlSi)

Sputter #3_C_Chamber (AlSi)

Stepper (I-line#11)

Stepper (I-line#11)

Stepper (I-line#12)

Stepper (I-line#12)

Track System #1

Track System #1

Track System #3

Track System #3

Wet Station #1_B1_Bath (PR Strip_metal)

Wet Station #1_B1_Bath (PR Strip_metal)

Wet Station #1_B2_Bath (PR Strip_non metal)

Wet Station #1_B2_Bath (PR Strip_non metal)

Wet Station #1_B3_Bath (PR Develop)

Wet Station #1_B3_Bath (PR Develop)

Wet Station #1_D1_Bath(metal) (DI)

Wet Station #1_D1_Bath(metal) (DI)

Wet Station #1_D2_Bath(non metal) (DI)

Wet Station #1_D2_Bath(non metal) (DI)

Wet Station #2_Non metal_B1_Bath (H3PO4)

Wet Station #2_Non metal_B1_Bath (H3PO4)

Wet Station #2_Non metal_B2_Bath (H2SO4)

Wet Station #2_Non metal_B2_Bath (H2SO4)

Wet Station #2_Non metal_B3_Bath (LAL1000)

Wet Station #2_Non metal_B3_Bath (LAL1000)

Wet Station #2_Non metal_B4_Bath (100:1HF)

Wet Station #2_Non metal_B4_Bath (100:1HF)

Wet Station #2_Non metal_B5_Bath (7:1BHF)

Wet Station #2_Non metal_B5_Bath (7:1BHF)

Wet Station #2_Non metal_D1_Bath (DI)

Wet Station #2_Non metal_D1_Bath (DI)

Wet Station #3_Non metal_B1_Bath (H2SO4)

Wet Station #3_Non metal_B1_Bath (H2SO4)

Wet Station #3_Non metal_B2_Bath (SC1)

Wet Station #3_Non metal_B2_Bath (SC1)

Wet Station #3_Non metal_B3_Bath (100:1HF)

Wet Station #3_Non metal_B3_Bath (100:1HF)

Wet Station #3_Non metal_D1_Bath (DI)

Wet Station #3_Non metal_D1_Bath (DI)

Wet Station #4_Non metal_B1_Bath (H2SO4)

Wet Station #4_Non metal_B1_Bath (H2SO4)

Wet Station #4_Non metal_B2_Bath (SC1)

Wet Station #4_Non metal_B2_Bath (SC1)

Wet Station #4_Non metal_B3_Bath (100:1HF)

Wet Station #4_Non metal_B3_Bath (100:1HF)

Wet Station #4_Non metal_B4_Bath (50:1HF)

Wet Station #4_Non metal_B4_Bath (50:1HF)

Wet Station #4_Non metal_D1_Bath (DI)

Wet Station #4_Non metal_D1_Bath (DI)

Wet Station #5_metal_B1_Bath (LAL1000)

Wet Station #5_metal_B1_Bath (LAL1000)

Wet Station #5_metal_B3_Bath (H2SO4)

Wet Station #5_metal_B3_Bath (H2SO4)

Wet Station #5_metal_B3_Bath (Metal Etchant)

Wet Station #5_metal_B3_Bath (Metal Etchant)

Wet Station #5_metal_B4_Bath (50:1HF)

Wet Station #5_metal_B4_Bath (50:1HF)

Wet Station #5_metal_D1_Bath (DI)

Wet Station #5_metal_D1_Bath (DI)

Wet Station #5_non metal_D2_Bath (DI)

Wet Station #5_non metal_D2_Bath (DI)

Wet Station #6

Wet Station #6

Wire Bonding #1

Wire Bonding #1