MOAFAB

2D Surface Profiler (01)

2D 표면 단차 측정기 (01)

2D Surface Profiler (02)

2D 표면 단차 측정기 (02)

Wire Ball Bonder

와이어 볼 본딩 장비

Wire Wedge Bonder

와이어 웨지 본딩 장비

Atomic Layer Deposition (04)

원자층 증착 장비 (04)

Semiconductor Parameter Analyzer (01)

반도체 소자 특성 측정기 (01)

Semiconductor Parameter Analyzer (02)

반도체 소자 특성 측정기 (02)

Semiconductor Parameter Analyzer (03)

반도체 소자 특성 측정기 (03)

Semiconductor Parameter Analyzer (04)

반도체 소자 특성 측정기 (04)

Inductively Coupled Plasma Etcher (09)

유도 결합 플라즈마 식각 장비 (09)

Solar Simulator

태양광 시뮬레이터

3D Surface Profiler (01)

3D 표면 단차 측정기 (01)

Metal Sputter (01)

금속 스퍼터 (01)

High Density Plasma-enhanced CVD (02)

고밀도플라즈마 화학기상증착 장비 (02)

Inductively Coupled Plasma Etcher (04)

유도 결합 플라즈마 식각 장비 (04)

Inductively Coupled Plasma Etcher (03)

유도 결합 플라즈마 식각 장비 (03)

FE-SEM (02)

전계 방출형 주사전자현미경 (02)

Acid-Wet Station (16)

Acid-Wet Station (16)

Solvent-Wet Staion (08)

Solvent-Wet Staion (08)

Solvent-Wet Staion (09)

Solvent-Wet Staion (09)

Acid-Solvent-Wet Station (21)

Acid-Solvent-Wet Station (21)

Solvent-Wet Staion (20)

Solvent-Wet Staion (20)

EDS

에너지 분산 X선 분광기

Furnace (06)

퍼니스 (06)

Tungsten Hot Wire CVD

텅스텐촉매 열선 화학기상증착기

4-Point Probe (02)

4-포인트 프로브 (02)

4-Point Probe (03)

4-포인트 프로브 (03)

AFM (02)

원자 힘 현미경 (02)

Wafer Dicing Saw (03)

웨이퍼 절삭기 (03)

Wafer Dicing Saw (02)

웨이퍼 절삭기 (02)

Chip Bonding Tester

칩 결합 시험 장비

2D Surface Profiler (03)

2D 표면 단차 측정기 (03)

Maskless lithography system (01)

마스크리스 리소그래피 시스템 (01)

Maskless lithography system (02)

마스크리스 리소그래피 시스템 (02)

Low Pressure CVD (01)

저압 화학기상증착 장비 (01)

Medium Current Ion Implanter

중전류 이온주입 장비

Ellipsometer (03)

엘립소미터 (03)

Metal Sputter (03)

금속 스퍼터 (03)

Metal Sputter (04)

금속 스퍼터 (04)

High Density Plasma-enhanced CVD (01)

고밀도플라즈마 화학기상증착 장비 (01)

4-Point Probe (01)

4-포인트 프로브 (01)

Stress Measurement

스트레스 측정기

Inductively Coupled Plasma CVD (1)

유도 결합 플라즈마 화학기상증착 장비

Inductively Coupled Plasma Etcher (07)

유도 결합 플라즈마 식각 장비 (07)

Hall Effect Measurement

홀 효과 측정기

Thermal Evaporator (01)

열 금속 증착 장비 (01)

Electron Beam Lithography (3)

전자빔 리소그래피

Spin Coater (01)

스핀 코터 (01)

Rapid Thermal Anneal (02)

RTA (02)

Rapid Thermal Anneal (05)

RTA (05)

Rapid Thermal Process (02)

RTP (02)

Atomic Layer Deposition (03)

원자층 증착 장비 (03)

Ellipsometer (01)

엘립소미터 (01)

Ellipsometer (02)

엘립소미터 (02)

Aligner (02)

얼라이너 (02)

Metal Sputter (02)

금속 스퍼터 (02)

Chemical Dry Etcher

화학적 건식 식각 장비

Probe Station (02)

프로브 스테이션 (02)

PR Track (02)

PR 트랙 장비 (02)

PR Track (01)

PR 트랙 장비 (01)

Inductively Coupled Plasma Etcher (01)

유도 결합 플라즈마 식각 장비 (01)

Atomic Layer Deposition (02)

원자층 증착 장비 (02)

CD-SEM

임계치수 측정 주사전자현미경

Low Pressure CVD (02)

저압 화학기상증착 장비 (02)

Inductively Coupled Plasma Etcher (10)

유도 결합 플라즈마 식각 장비 (10)

Optical Microscope (01)

광학 현미경 (01)

Optical Microscope (02)

광학 현미경 (02)

Optical Microscope (01)

광학 현미경 (03)

Optical Microscope (04)

광학 현미경 (04)

Optical Microscope (05)

광학 현미경 (05)

Optical Microscope (06)

광학 현미경 (06)

Probe Station (05)

프로브 스테이션 (05)

Semiconductor Parameter Analyzer (05)

반도체 소자 특성 측정기 (05)

Acid-Wet Station (01)

Acid-Wet Station (01)

Acid-Wet Station (02)

Acid-Wet Station (02)

Acid-Wet Station (03)

Acid-Wet Station (03)

Acid-Wet Station (05)

Acid-Wet Station (05)

Acid-Wet Station (13)

Acid-Wet Station (13)

Solvent-Wet Staion (18)

Solvent-Wet Staion (18)

Atomic Layer Deposition (01)

원자층 증착 장비 (01)

Inductively Coupled Plasma Etcher (02)

유도 결합 플라즈마 식각 장비 (02)

Inductively Coupled Plasma Etcher (08)

유도 결합 플라즈마 식각 장비 (08)

FT-IR

푸리에 변환 적외선 분광기

PR Stepper

PR 스테퍼

Plasma-Enhanced CVD and Magnetically Enhanced Reactive Ion Etcher (01)

플라즈마 화학기상증착기 및 자기 강화 반응성 이온 식각기 (01)

Plasma-Enhanced CVD and Magnetically Enhanced Reactive Ion Etcher (02)

플라즈마 화학기상증착기 및 자기 강화 반응성 이온 식각기 (02)

Parylene Deposition System

패럴린 막 증착 장비

Inductively Coupled Plasma Etcher (11)

유도 결합 플라즈마 식각 장비 (11)

Plasma-enhanced CVD

플라즈마 화학기상증착기

Inductively Coupled Plasma Etcher (06)

유도 결합 플라즈마 식각 장비 (06)

PR Dry Asher (02)

PR 건식 애셔 (02)

PR Dry Asher (01)

PR 건식 애셔 (01)

Metal-Oxide Sputter (01)

금속 산화물 스퍼터 (01)

Spin Coater (04)

스핀 코터 (04)

Probe Station (01)

프로브 스테이션 (01)

Probe Station (03)

프로브 스테이션 (03)

Probe Station (04)

프로브 스테이션 (04)

FE-SEM (01)

전계 방출형 주사전자현미경 (01)

Pt Coater

백금(Pt) 코팅 장비

Furnace (01)

퍼니스 (01)

Furnace (02)

퍼니스 (02)

Low Pressure CVD (03)

저압 화학기상증착 장비 (03)

Super Inkjet Printer

슈퍼 잉크젯 프린터

Furnace (03)

퍼니스 (03)

Inductively Coupled Plasma Etcher (05)

유도 결합 플라즈마 식각 장비 (05)

Spin Coater (06)

스핀 코터 (06)

Furnace (04)

퍼니스 (04)

Solvent-Wet Staion (06)

Solvent-Wet Staion (06)

Metal-Oxide Sputter (02)

금속 산화물 스퍼터 (02)

Metal Sputter (05)

금속 스퍼터 (05)

E-Gun Evaporator (01)

전자빔 금속 증착 장비 (01)

E-Gun Evaporator (02)

전자빔 금속 증착 장비 (02)

Reflectometer (Nanospec) (02)

리플렉토미터(Nanospec) (02)

Reflectometer (Nanospec) (03)

리플렉토미터(Nanospec) (03)

Reflectometer (Nanospec) (01)

리플렉토미터(Nanospec) (01)

Depth Measurement Microscope

깊이 측정 현미경

TF Analyzer

강유전 특성 계측기

Spin Coater (02)

스핀 코터 (02)

Spin Coater (07)

스핀 코터 (07)

Spinner (03)

스피너 (03)

Acid-Wet Station (17)

Acid-Wet Station (17)

STI CMP (01)

STI CMP (01)

CMP (01)

CMP (01)

3D Surface Profiler (02)

3D 표면 단차 측정기 (02)

PR Plasma Asher (01)

PR 플라즈마 애셔 (1)

PR Plasma Asher (02)

PR 플라즈마 애셔 (2)

In-Line CD-SEM

In-Line 임계치수 측정 주사전자현미경

3D Surface Profiler (03)

3D 표면 단차 측정기 (03)

Solvent-Wet Staion (24)

Solvent-Wet Staion (24)

Acid-Wet Station (04)

Acid-Wet Station (04)

Solvent-Wet Staion (10)

Solvent-Wet Staion (10)

Acid-Wet Station (12)

Acid-Wet Station (12)

Acid-Wet Station (14)

Acid-Wet Station (14)

Acid-Wet Station (15)

Acid-Wet Station (15)

Spin Coater (03)

스핀 코터 (03)

Spin Coater (05)

스핀 코터 (05)

AFM (01)

원자 힘 현미경 (01)

Track VI (8inch)

Track VI (8inch)

Develop Wet-Bench(Litho)

Develop Wet-Bench(Litho)

Organic Wet-Bench(Litho)

Organic Wet-Bench(Litho)

Organic Wet-station(Litho)

Organic Wet-station(Litho)

Asher(DAS2000)

Asher(DAS2000)

Etcher(Unitiy Ⅱ-85SCCM)

Etcher(Unitiy Ⅱ-85SCCM)

E-beam evaporator (R&D) I

E-beam evaporator (R&D) I

E-beam evaporator (R&D) III

E-beam evaporator (R&D) III

Wafer bonder (R&D)

Wafer bonder (R&D)

4 point probe

4 point probe

Mini Furnace

Mini Furnace

ICP etcher I(R&D)

ICP etcher I(R&D)

ICP etcher II(R&D)

ICP etcher II(R&D)

ICP etcher III(R&D)

ICP etcher III(R&D)

ICP etcher IV(R&D)_DRIE

ICP etcher IV(R&D)_DRIE

Wafer Laser Marker

Wafer Laser Marker

Laser Lift-off

Laser Lift-off

3D Laser Profiler

3D Laser Profiler

Optical Thickness Measure System

Optical Thickness Measure System

HDP-CVD (R&D)

HDP-CVD (R&D)

Cu & Ni Plating Machine (R&D)

Cu & Ni Plating Machine (R&D)

RTA (R&D)

RTA (R&D)

Surface Scan/Profiler

Surface Scan/Profiler

Stress Measurement System

Stress Measurement System

Acid Wet-Bench(R&D)

Acid Wet-Bench(R&D)

Alkali Wet-Bench(R&D)

Alkali Wet-Bench(R&D)

Organic Wet-Bench(R&D)

Organic Wet-Bench(R&D)

Lift-Off Wet-Bench(R&D)

Lift-Off Wet-Bench(R&D)

Die-bonder (Back-end)

Die-bonder (Back-end)

Dicing Machine II

Dicing Machine II

Dicing Machine III

Dicing Machine III

Dicing Machine IV

Dicing Machine IV

Horizontal Grinding M/C

Horizontal Grinding M/C

Lapping and Polishing M/C

Lapping and Polishing M/C

Prober

Prober

Wire-bonder (Back-end)

Wire-bonder (Back-end)

Temperature and Humidity Tester

Temperature and Humidity Tester

Thermal Shock

Thermal Shock

AFM I, II (model: XE100, Park systems)

AFM I, II (model: XE100, Park systems)

AFM I, II (model: XE100, Park systems)

AFM I, II (model: XE100, Park systems)

AFM III (model: XE150, 6인치 가능)

AFM III (model: XE150, 6인치 가능)

FIB I (model: Nova 600, FEI사)

FIB I (model: Nova 600, FEI사)

FIB II (model: Quanta 3D FEG, FEI)

FIB II (model: Quanta 3D FEG, FEI)

FTIR

FTIR

67GHz modeling sys.

67GHz modeling sys.

110GHz modeling sys.

110GHz modeling sys.

MultiPrep

MultiPrep

Spectrophotometer

Spectrophotometer

PIPS II

PIPS II

Probe station III (DC)

Probe station III (DC)

Non-contact sheet resistance

Non-contact sheet resistance

XRD

XRD

RIE (산업화)

RIE (산업화)

RIE II (산업화)_P5000

RIE II (산업화)_P5000

E-beam evaporator (산업화) I

E-beam evaporator (산업화) I

E-beam evaporator (산업화) II

E-beam evaporator (산업화) II

ICP etcher (산업화) I

ICP etcher (산업화) I

ICP etcher (산업화) II

ICP etcher (산업화) II

ICP etcher (산업화) III

ICP etcher (산업화) III

Liftoff Machine

Liftoff Machine

Wafer surface? particle counter

Wafer surface? particle counter

PECVD (산업화) II

PECVD (산업화) II

PECVD (산업화) III_P5000

PECVD (산업화) III_P5000

Au Plating Machine I(Pattern용)

Au Plating Machine I(Pattern용)

Au Plating Machine II (backside)

Au Plating Machine II (backside)

Sputter System (Cluster)

Sputter System (Cluster)

Sputter System (Batch)

Sputter System (Batch)

Acid Wet-station(산업화)

Acid Wet-station(산업화)

Automated Mask Aligner I

Automated Mask Aligner I

Contact Aligner I (Manual)

Contact Aligner I (Manual)

Automated Mask Aligner II

Automated Mask Aligner II

Automated Mask Aligner III(8 inch)

Automated Mask Aligner III(8 inch)

Automated Mask Aligner IV (8 inch)

Automated Mask Aligner IV (8 inch)

Contact Aligner VIII

Contact Aligner VIII

CD-SEM I (9260)

CD-SEM I (9260)

CD-SEM II (8820)

CD-SEM II (8820)

Spray Developer

Spray Developer

E-beam lithography I (9300)

E-beam lithography I (9300)

Box Furnace

Box Furnace

Laminating Machine

Laminating Machine

Mask Cleaner

Mask Cleaner

Nano Imprint

Nano Imprint

Convection oven I

Convection oven I

Convection oven II

Convection oven II

Spin Coater ll

Spin Coater ll

KrF Stepper

KrF Stepper

l-line Stepper

l-line Stepper

Track I (2-3 inch)

Track I (2-3 inch)

Track II (4-6 inch)

Track II (4-6 inch)

Track III (4-6 inch)

Track III (4-6 inch)

Track IV (4-6 inch)

Track IV (4-6 inch)

Track V (8inch)

Track V (8inch)

FE SEM I

FE SEM I

FE SEM III

FE SEM III

Analytic STEM

Analytic STEM

HR-TEM II

HR-TEM II

XPS

XPS

Electrochemical CV Profiler

Electrochemical CV Profiler

Hall effect Measurement System

Hall effect Measurement System

MOCVD (epi) I

MOCVD (epi) I

MOCVD (epi) II

MOCVD (epi) II

MOCVD(epi) III

MOCVD(epi) III

MOCVD(epi) IV

MOCVD(epi) IV

MOCVD(epi) V

MOCVD(epi) V

MOCVD(epi) Ⅵ

MOCVD(epi) Ⅵ

MOCVD(epi) VII

MOCVD(epi) VII

Photoluminescence

Photoluminescence

Acid Wet-station(R&D)

Acid Wet-station(R&D)

Alkali Wet-station(R&D)

Alkali Wet-station(R&D)

Organic Wet-station(R&D)

Organic Wet-station(R&D)

SPM Wet-station(R&D)

SPM Wet-station(R&D)

Atomic Layer Deposition - Metals

Atomic Layer Deposition - Metals

Atomic Layer Deposition - Insulators

Atomic Layer Deposition - Insulators

Wafer Backside Cleaner

Wafer Backside Cleaner

W / Oxide CMP

W / Oxide CMP

Cu CMP

Cu CMP

DC measurement system for high power devices

DC measurement system for high power devices

Automatic Elipsometer

Automatic Elipsometer

Cu Plating Machine for Damascene

Cu Plating Machine for Damascene

FIB Ⅲ (model : Helios 5 UX, Thermofisher)

FIB Ⅲ (model : Helios 5 UX, Thermofisher)

RF Power Measurement System

RF Power Measurement System

Overlay Metrology System

Overlay Metrology System

Auto Precision Grinding and Polishing System

Auto Precision Grinding and Polishing System

Rapid Thermal Process System

Rapid Thermal Process System

Endura sputter

Endura sputter

Evatec sputter

Evatec sputter

8 inch Wafer Automatic Sheet Resistance Measurement System

8 inch Wafer Automatic Sheet Resistance Measurement System

W / plasma CVD

W / plasma CVD

Auto Wet Station

Auto Wet Station

3D Atom Probe Tomography (LEAP4000X HR) 1

3D Atom Probe Tomography (LEAP4000X HR) 1

3D Conforcal Scanning Microscope (3DCSM)

3D Conforcal Scanning Microscope (3DCSM)

3D Profiler

3D Profiler

4 Point Probe - 1

4 Point Probe - 1

Atomic Layer Deposition (ALD)

Atomic Layer Deposition (ALD)

CD&Surface inspection system

CD&Surface inspection system

CD-SEM

CD-SEM

Curve Tracer & Probe Station

Curve Tracer & Probe Station

DC&RF Sputtering system

DC&RF Sputtering system

Deep Reactive Ion Etcher(DRIE) - 1

Deep Reactive Ion Etcher(DRIE) - 1

Deep Reactive Ion Etcher(DRIE) - 2

Deep Reactive Ion Etcher(DRIE) - 2

Dry Etcher - TEL

Dry Etcher - TEL

Dry Etcher_DMS

Dry Etcher_DMS

Dry Etcher_Oxide

Dry Etcher_Oxide

Dry Etcher_Poly Si

Dry Etcher_Poly Si

Dry-Etcher_Ulvac

Dry-Etcher_Ulvac

E-Beam Evaporator - 1

E-Beam Evaporator - 1

E-beam Evaporator-2

E-beam Evaporator-2

E-Beam Lithography System - 1

E-Beam Lithography System - 1

E-Beam Lithography System - 2

E-Beam Lithography System - 2

Focused Ion Beam -Ⅰ(Helios 600 with TKD)

집속이온빔 (Helios 600 with TKD)

Focused Ion Beam -Ⅱ (Helios 650 with EBSD)

집속이온빔 (Helios 650 with EBSD)

Focused Ion Beam -Ⅲ(Helios G3 CX)

집속이온빔 (Helios G3 CX)

Focused Ion Beam -Ⅳ (SMI 3050)

집속이온빔 (SMI 3050)

Furnace High Temp anneal_SiC

Furnace High Temp anneal_SiC

Furnace Metal Anneal

Furnace Metal Anneal

Furnace Oxidation_LEAD

Furnace Oxidation_LEAD

High Resolution FE-SEM- Ⅲ (Hitachi S-4800 )

High Resolution FE-SEM- Ⅲ (Hitachi S-4800 )

High Resolution FE-SEM-Ⅱ (JSM 7800F PRIME with Dual EDS)

High Resolution FE-SEM-Ⅱ (JSM 7800F PRIME with Dual EDS)

High Resolution FE-SEM-I (JSM 7401F)

High Resolution FE-SEM-I (JSM 7401F)

HR FE-SEM (in Clean Room)

HR FE-SEM (in Clean Room)

HR FE-TEM -2200FS with Image Spherical Aberration Corrector

HR FE-TEM -2200FS with Image Spherical Aberration Corrector

HR-[S]TEM-Ⅰ(2100F with Probe Cs-Corrector)

HR-[S]TEM-Ⅰ(2100F with Probe Cs-Corrector)

I-Line Stepper - 1

I-Line Stepper - 1

I-Line Stepper - 2

I-Line Stepper - 2

I-Line Stepper -4

I-Line Stepper -4

I-Line Stepper-3

I-Line Stepper-3

LP-CVD

LP-CVD

Mask Aligner_MA6

Mask Aligner_MA6

Mask Aligner_MA8

Mask Aligner_MA8

Maskless laser lithography system

Maskless laser lithography system

Metal Lift-Off

Metal Lift-Off

NEMS White Wet station - Organic

NEMS White Wet station - Organic

NEMS Yellow Wet station - Acid

NEMS Yellow Wet station - Acid

NEMS Yellow Wet station - Organic

NEMS Yellow Wet station - Organic

OLED Systems

OLED Systems

Optical Microscopes - Etch

Optical Microscopes - Etch

Optical Microscopes - Photo

Optical Microscopes - Photo

Optical Microscopes - THinFilm

Optical Microscopes - THinFilm

Optical Microscopes-Diffusion

Optical Microscopes-Diffusion

Optical Microscopes-EBL

Optical Microscopes-EBL

PE-CVD - P5000

PE-CVD - P5000

PECVD System P-5000

PECVD System P-5000

PE-CVD-1

PE-CVD-1

PE-CVD-2

PE-CVD-2

PR Asher for BEOL

PR Asher for BEOL

PR Asher_FEOL - 1

PR Asher_FEOL - 1

PR Asher_FEOL - 2

PR Asher_FEOL - 2

PR Track_DAVID

PR Track_DAVID

PR Track_SVS - 1

PR Track_SVS - 1

PR Track_SVS - 2

PR Track_SVS - 2

PR Track_SVS - 3

PR Track_SVS - 3

PR Track_TEL - 1

PR Track_TEL - 1

Probe Station_Power Semiconductor

Probe Station_Power Semiconductor

PZT sputtering

PZT sputtering

RTP for RTO

RTP for RTO

RTP for Silicide

RTP for Silicide

Secondary Ion Mass Spectrometry (SIMS)

Secondary Ion Mass Spectrometry (SIMS)

Spectroscopic Ellipsometer

Spectroscopic Ellipsometer

Spin Rinse Dryer

Spin Rinse Dryer

Sputter_ENDURA - 1

Sputter_ENDURA - 1

Sputter_ENDURA - 2

Sputter_ENDURA - 2

Stress Measurement System

Stress Measurement System

UHV-CVD

UHV-CVD

UV/Vis/nIR Spectrometer

UV/Vis/nIR Spectrometer

Wet Station_Acid - 1

Wet Station_Acid - 1

Wet Station_Acid - 2

Wet Station_Acid - 2

Wet Station_Organic

Wet Station_Organic

Wet Station_Acid - 3

Wet Station_Acid - 3

Track VII(4-6inch)

Track VII(4-6inch)

Furnace

Furnace

Metal Etcher

Metal Etcher

Insulator / Si Etcher

Insulator / Si Etcher

SiC Etcher

SiC Etcher

RF Noise Parameter Measurement

RF Noise Parameter Measurement

Wafer Defect Inspection

Wafer Defect Inspection

HDP-CVD

HDP-CVD

Defect-Review SEM

Defect-Review SEM

Acid / Organic wet station

Acid / Organic wet station

Spin Rinse Dryer (2)

Spin Rinse Dryer (2)

Spin Rinse Dryer (4)

Spin Rinse Dryer (4)

Spin Rinse Dryer (5)

Spin Rinse Dryer (5)

Spin Rinse Dryer (6)

Spin Rinse Dryer (6)

Spin Rinse Dryer (1)

Spin Rinse Dryer (1)

Spin Rinse Dryer (3)

Spin Rinse Dryer (3)

Spin Rinse Dryer (11)

Spin Rinse Dryer (11)

Spin Rinse Dryer (7)

Spin Rinse Dryer (7)

Spin Rinse Dryer (8)

Spin Rinse Dryer (8)

Spin Rinse Dryer (9)

Spin Rinse Dryer (9)

Spin Rinse Dryer (10)

Spin Rinse Dryer (10)

Wafer Bonding System

Wafer Bonding System

XRF

XRF

Pattern Design Tool

Pattern Design Tool

Sputter(E5500)

Sputter(E5500)

Ion Coater

Ion Coater

Solar simulator

Solar simulator

PIPS I

PIPS I

CVD W

텅스텐 화학기상 증착장치

High Current Implant

고전류 이온주입장치

High Energy Implant

고에너지 이온주입장치

RTP - Non Metal

급속 열처리장치

RTP - Metal

급속 열처리장치

a-Si/Oxide/Nitride

화학기상 증착장치

CMOS Sputter - Ti/TiN/Co/Al

구리용 스퍼터

RTP - Non Metal

급속 열처리장치

Deep Si Etcher

실리콘 건식식각장치

WL 3D SAM

웨이퍼 레벨 3차원 비파괴 검사시스템

Reactive Ion Etcher

이온반응식각장치

Deep Si Etcher

고종횡비 실리콘 식각 장비

Vacuum Packaging

진공포장기

Flow Cytometer

고성능 유세포 측정분석기

Dry etch

건식 식각 장치

PR STRIP

감광제 제거 장비

LPCVD Nitride

저압 화학기상 증착로

Single wafer cleaner

300mm 매엽식 세정 장치

Thickness Meas.

300mm 두께 측정 장비

KrF inline Nikon scanner

극자외선축소투영노광시스템

Medium Current

중전류 이온주입 장치

표면탄성파 발생기

표면탄성파 발생기

마이크로패터닝

마이크로 패터닝 시스템

Micro electrode patterning

마이크로 전극성형기

Real Time PCR

체외진단용 유전자 증폭기

Metal etcher

Metal etcher

반도체 기판의 휨 측정 장비

반도체 기판의 휨 측정 장비

Defect Inspection System

패턴 웨이퍼 결함 검사 장비

Oxide Etcher

고종횡비 산화막 건식식각장치

Continuous deposition & etching equipment

연속증착식각장치

Raman Spectrometer

라만 분광기

CPD

임계점 건조장치(불용, 폐기예정)

Poly Furnace

폴리실리콘 증착로

TEOS Furnace

화학기상 증착로

만능재료 시험기

만능재료 시험기

particle counter

파티클오염 검수장치

Flip chip bonder

플립 칩 본더

복합환경시험기

복합환경시험기

Sputter

300mmm 금속증착 장비

대기압 플라즈마처리

대기압 플라즈마처리

Ultrasonic generator

초음파 발생기

HDPCVD

HDPCVD

PR Stripper

감광제 제거장치

Back Grinder

웨이퍼 연삭 및 연마 장치

MEMS Furnace

멤스용 열처리 확산로

Plotting Cutting

플로팅 커팅기

BiO Wet Station

BiO Wet Station

XRD

엑스선 회절분석기

SEMulator3D

3차원 가상 공정 시뮬레이터

Nucleic Acid Extractor

자동핵산 추출기

High Vacuum Sealing system

고진공 패키징 장치

실시간 유전자 증폭기

실시간 유전자 증폭기

Bio-SEM

Bio-SEM

Spray coater

Spray coater

CVD W

CVD W

PECVD

PECVD

PECVD

PECVD

가변 레이저 시스템

가변 레이저 시스템

Metal_Solvent

웨이퍼 세정 장비

Imprinter

임프린트 시스템

Tape Remover

연삭용 필름 제거 장치

신소재 Wet Station

신소재 세정장치

Superconducting Nanowire Single Photon Detector

단광자 검출기

BiO Spin Coater

바이오 스핀 코터

Linux server (dotori)

Linux server (dotori)

Stealth Laser Dicer

스텔스 레이져 다이싱 장치

(Sensor) 4-point Probe

면저항 측정기

Film Laminating

필름 라미네이터

Surface Plasmon Resonance

고성능 표면 플라즈몬 공명 분석장비

Automated Doubleside Contact Aligner

자동 양면 마스크 얼라이너 장비

ArF Exposing

액침 불화아르곤 엑시머 레이저 노광기

Track

자동감광제 도포장치(ArF용)

CDSEM

임계치수 전자주사현미경

Oxidation

열 산화막 성장로

PECVD

플라즈마 화학기상 증착 장비

원자층 이온빔 식각장비

원자층 이온빔 식각장치

Laser Anneal

레이저 어닐장치

Desktop SEM

Desktop SEM

Low Temp. PECVD

Low Temp. PECVD

i-CVD

나노폴리머 기상증착기

Edge Grinder

웨이퍼 면취 장치

Tape Laminater

연삭용 필름 라미네이션 장치

Multiple PECVD

멤스용 화학기상 증착장치

XPS

엑스선 광전자 분광기

ion Beam Evaporator

ion Beam Evaporator

Semi-auto Vacuum Probe Station

반자동 진공 프로브스테이션

Time-of-Flight SIMS

비행시간형 이차이온질량분석기

Multi-chamber ALD System

200mm 다중 챔버 원자층 증착 시스템

Wet Station - Post Cleaner

웨이퍼 세정 장비

CMP(OXIDE)

산화막 화학적 기계적 연마장치

Overlay measurement

층간패턴 중첩도 측정장치

AlN sputter

압전박막 결정성장 증착장비

Microfluidic analyzer

마이크로 유체 분석기

OPC

OPC

Multi stack wafer bonder

웨이퍼 본더

FOUP Cleaner

FOUP 세정장치

Laser Micromachining System

레이저 마이크로 시스템

Vacuum Probe Station

센서 특성 평가 수동 시스템

Photonics SWIR Camera

근적외석 카메라

Vacuum Packaging

진공포장기

다기능X선 분광기

다기능 엑스선 광전자 분광기

Wafer 분류

Wafer 분류

nanostructure casting

나노구조 캐스팅 장치

Wire Bonding System

와이어 본딩 시스템

Multi-function fs laser systems

Multi-function fs laser systems

ICP-MS

ICP-MS

Non_Metal

웨이퍼 세정 장비

Metal_Acid

웨이퍼 세정 장비

GEMINI Wafer Bonder

자동 웨이퍼 본딩장치

Dicing Machine

웨이퍼 절단 장치

MEMS PETOS

멤스용 화학기상 증착장치

UHR FE-SEM

고분해능 전계방출형 주사전자현미경

Sonic Bonding

초음파 융착기

Centrifuge

고속원심분리기

2D Materials (가상)

2D Materials (가상)

Micro Cleaving System

마이크로 클리빙 장치

ELISA Spectrophotometer

엘라이저 리더

Auto Track for Aligner

자동 감광제 도포장치

Manual Coater

수동 감광제 도포 및 가열장치

MEMS Wet Station - Develop

수동 세정장치

NEMS - Electroplater

컵타입 전해도금장치

Low Stress Nitride

저응력 질화막 증착로

Multi-target sputter

다중타겟 스퍼터

Polarizing microscope

편광 현미경

나노고분자 캐스팅 장비

나노폴리머 캐스팅 장비

CD-SEM

비파괴 선폭측정 주사현미경

Maskless Aligner

Maskless Aligner

Wafer 분류

300mm 웨이퍼 분류장치

300mm용 AFM

300mm용 주사탐침현미경

Film strip cleaner

필름 제거 세정 장치

polymer molding

폴리머 몰딩 장치

Inline FE-SEM

고분해능 전계방사형 주사전자현미경

(SENSOR) 2D Profile, Surface Parameter

접촉식 단차측정기

(Sensor) 두께측정 장비 - Thick Film

분광반사율측정기

Cooling Cross Section Polisher

저온 이온빔 단면가공기

Wafer ID Marker

레이저 마킹장치

Atom Probe Tomography

원자 탐침 단층현미경

Nitride Furnace

저압 화학기상 증착로

ArF inline scanner

불화아르곤 노광기

Confocal Laser Scanning Microscope

공초점 레이저 주사 현미경

Litho mask fabrication

포토마스크 제작장치(가상코드)

비표면적 분석기

비표면적분석기

Auto Lift-off M/C

Auto Lift-off M/C

TGA DSC

열중량/시차주사열량 동시 열분석기

겔크로마토그래피(GPC)

겔투과 크로마토그래피

충방전 테스트

충방전 테스트 시스템

DB_Helios 5 UX

듀얼집속이온빔장치

FE-SEM(S4800-2)

FE-SEM(S4800-2)

Spike RTP

급속 열처리장치

Wet cleaning

Wet cleaning

CMOS 두께측정 장비 - Thick Film

분광 반사율 측정기

NEMS 두께측정 장비 - Thick Film

분광 반사율 측정기

CMOS 두께측정 장비 - Thin Film, Index, M

분광타원편광해석기

CMOS 두께측정 장비 - Pattern, Flat, Index

분광 반사 및 타원해석기

(NEMS) 4-point Probe

면저항 측정기

(NEMS) 2D Profile, Surface Parameter

표면단차측정기

Stress Gauge

잔류응력 측정기

FE-TEM (300 kV)

전계방출형 투과전자현미경

FE-TEM (200 kV)

200 kV 전계방출형 투과전자현미경

Cs-corrected STEM

구면수차보정 주사투과전자현미경

TEM - Sample Preparation

이온연마장치

8-inch DB-FIB (EDS)

듀얼집속이온빔장치

DB-FIB

듀얼집속이온빔장치

SB-FIB

싱글집속이온빔장치

FE-SEM (EDS)

전계방출형 주사전자현미경

FE-SEM (S4800-1)

전계방출형 주사전자현미경

SPM (PSIA)

주사탐침현미경

FT-IR Microscope

적외선 분광기

Nano Indenter XP

나노압입시험기

Manual Probe Station

매뉴얼 프로브 스테이션

Semi-auto Probe Station

세미오토 프로브 스테이션

Auto Probe Station

자동 프로브 스테이션

Wet Station

세정장비

Auto-stage Microscope

오토스테이지 광학현미경

RIE

이온반응식각장치

Material Analysis

Material Analysis

Magnetic Sector SIMS

자기섹터 이차 이온 질량분석기

Contact Aligner

접촉식 마스크 노광기

Micromeritics BET

비표면적 측정장치

Particle Size Analyzer

입도 분석기

Glove Box

글러브박스

Vacuum Oven

진공오븐

MEMS Wet Station - Develop

수동 세정장치

MEMS Track for Aligner

자동 감광제 도포장치

Wet Station - NEMS Acid

멤스용 세정장치

Wet Station - NEMS Solvent

멤스용 세정장치

MEMS 설계툴 (Coventorware)

다중물리센서 설계 소프트웨어

NEMS-CMP(UNIPLA 231)

화학물리적 구리박막 연마장치

NEMS - Electroplating

컵타입 전해도금장치

Vacuum Furnace

진공 퍼니스

(CMOS) 4-Point Probe

고면저항 측정기

Multi-Sputter

다중타겟 스퍼터

E-beam 용 Track

전자선용 감광제 도포장치

PECVD(Auto)

자동 화학기상 증착장치

압전물질 건식 식각

압전물질 건식 식각

High Temp Fusion Bonder

고진공 웨이퍼 본딩장치

KrF ASML Inline Scanner

극자외선축소투영노광시스템

I-line Track(Thin & Thick PR)

자동 감광제 도포장치

I-line Stepper

스탭식투영노광장치

I-line Stepper

스탭식투영노광장치

E-beam System (JEOL)

전자선 리소그라피시스템

CD SEM(Hitachi 9260)

비파괴 선폭측정 주사현미경

Overlay Measurement

층간패턴 중첩도 측정장치

Particle Counter

파티클오염 검수장치

Contact Aligner

접촉식 마스크 노광기

Fusion Bonder / Hot Embossing

접착 및 압인 가공장치

Dielectirc / Poly Etcher

산화물 식각장치

Poly / Metal Etcher + PR Strip

폴리메탈 식각장치

PR Stripper

감광제 제거장치

Metal Etcher - Al,Ti,TiN,W

멀티챔버 식각장치

Dielectric Etcher - BEOL

산화물 식각장치

Polymer Etcher

폴리머 식각장치

PR Stripper - NEMS 전용

멤스용 감광제 제거장치

PR Stripper

감광제 제거장치

Mask Generator

마스크 제작기

Mask Cleaner

마스크 세정장치

Metal Etcher - Al,Ti,TiN

금속 식각장치

CMP

화학물리적 산화막 연마장치

Non Metal Furnace - High Temp

고온 열처리 확산로

Non Metal Furnace - Gate Ox

열처리 확산로

Non Metal Furnace

열처리 확산로

Metal Furnace

열처리 확산로

Non Metal Furnace - Vertical

수직형 열처리 확산로

NEMS - Low Temp Anneal Furnace

멤스용 저온 열처리로

Low Stress Nitride

저응력 질화막 증착로

NEMS - Furnace

멤스용 열처리 확산로

NEMS - Poly Furnace

멤스용 저압화학기상 증착로

Parylene Coater

폴리머 도포장치

Poly Furnace

저압 화학기상 증착로

TEOS Furnace

저압 화학기상 증착로

Nitride Furnace

저압 화학기상 증착로

Low Temp Anneal Furnace

저온 열처리 확산로

NEMS - Multi Target Sputter

다중타겟 스퍼터

NEMS - E-Beam Evaporator

전자빔증착장치

NEMS - E-Beam Evaporator

전자빔증착장치

Dicing Sawing - Glass

고속 회전 절삭기

Dicing Sawing - Si

고속 회전 절삭기

SiH4 Base PECVD/HDP

화학기상 증착장치

PETEOS/BPSG

화학기상 증착장치

CMOS Sputter - Ti/TiN/Co/Al

티타늄 물리기상 증착장치

Dry Etcher_ICP

ICP 식각장치

NEMS White Wet station - Acid

NEMS 제작을 위한 Base System

Surface Potential Measurement System

표면장력측정시스템

Sputter (OLED)

스퍼터 (OLED)

PR Spin Coater_Sawatec

감광막 도포 시스템

Mask Aligner ME

마스크 정렬 노광 장비

Wafer Laser Marker

Wafer Laser Marker

NEMS Base System (optical microscope)

NEMS 제작을 위한 Base System

Alpha-Step (ME)

알파스텝(ME)

Atomic Force Microscope-Ⅱ(Jupiter XR)

원자탐침현미경

Hot Plate Baker I

Hot Plate Baker I

XRF

XRF

FE SEM IV

FE SEM IV

I-line Stepper II

I-line Stepper II(양자팹)

Microscope II

Microscope II