MOAFAB

Track VI (8inch)

Track VI (8inch)

Develop Wet-Bench(Litho)

Develop Wet-Bench(Litho)

Organic Wet-Bench(Litho)

Organic Wet-Bench(Litho)

Organic Wet-station(Litho)

Organic Wet-station(Litho)

Asher(DAS2000)

Asher(DAS2000)

Etcher(Unitiy Ⅱ-85SCCM)

Etcher(Unitiy Ⅱ-85SCCM)

E-beam evaporator (R&D) I

E-beam evaporator (R&D) I

E-beam evaporator (R&D) III

E-beam evaporator (R&D) III

Wafer bonder (R&D)

Wafer bonder (R&D)

4 point probe

4 point probe

Mini Furnace

Mini Furnace

ICP etcher I(R&D)

ICP etcher I(R&D)

ICP etcher II(R&D)

ICP etcher II(R&D)

ICP etcher III(R&D)

ICP etcher III(R&D)

ICP etcher IV(R&D)_DRIE

ICP etcher IV(R&D)_DRIE

Wafer Laser Marker

Wafer Laser Marker

Laser Lift-off

Laser Lift-off

3D Laser Profiler

3D Laser Profiler

Optical Thickness Measure System

Optical Thickness Measure System

HDP-CVD (R&D)

HDP-CVD (R&D)

Cu & Ni Plating Machine (R&D)

Cu & Ni Plating Machine (R&D)

RTA (R&D)

RTA (R&D)

Surface Scan/Profiler

Surface Scan/Profiler

Stress Measurement System

Stress Measurement System

Acid Wet-Bench(R&D)

Acid Wet-Bench(R&D)

Alkali Wet-Bench(R&D)

Alkali Wet-Bench(R&D)

Organic Wet-Bench(R&D)

Organic Wet-Bench(R&D)

Lift-Off Wet-Bench(R&D)

Lift-Off Wet-Bench(R&D)

Die-bonder (Back-end)

Die-bonder (Back-end)

Dicing Machine II

Dicing Machine II

Dicing Machine III

Dicing Machine III

Dicing Machine IV

Dicing Machine IV

Horizontal Grinding M/C

Horizontal Grinding M/C

Lapping and Polishing M/C

Lapping and Polishing M/C

Prober

Prober

Wire-bonder (Back-end)

Wire-bonder (Back-end)

Temperature and Humidity Tester

Temperature and Humidity Tester

Thermal Shock

Thermal Shock

AFM I, II (model: XE100, Park systems)

AFM I, II (model: XE100, Park systems)

AFM I, II (model: XE100, Park systems)

AFM I, II (model: XE100, Park systems)

AFM III (model: XE150, 6인치 가능)

AFM III (model: XE150, 6인치 가능)

FIB I (model: Nova 600, FEI사)

FIB I (model: Nova 600, FEI사)

FIB II (model: Quanta 3D FEG, FEI)

FIB II (model: Quanta 3D FEG, FEI)

FTIR

FTIR

67GHz modeling sys.

67GHz modeling sys.

110GHz modeling sys.

110GHz modeling sys.

MultiPrep

MultiPrep

Spectrophotometer

Spectrophotometer

PIPS II

PIPS II

Probe station III (DC)

Probe station III (DC)

Non-contact sheet resistance

Non-contact sheet resistance

XRD

XRD

RIE (산업화)

RIE (산업화)

RIE II (산업화)_P5000

RIE II (산업화)_P5000

E-beam evaporator (산업화) I

E-beam evaporator (산업화) I

E-beam evaporator (산업화) II

E-beam evaporator (산업화) II

ICP etcher (산업화) I

ICP etcher (산업화) I

ICP etcher (산업화) II

ICP etcher (산업화) II

ICP etcher (산업화) III

ICP etcher (산업화) III

Liftoff Machine

Liftoff Machine

Wafer surface? particle counter

Wafer surface? particle counter

PECVD (산업화) II

PECVD (산업화) II

PECVD (산업화) III_P5000

PECVD (산업화) III_P5000

Au Plating Machine I(Pattern용)

Au Plating Machine I(Pattern용)

Au Plating Machine II (backside)

Au Plating Machine II (backside)

Sputter System (Cluster)

Sputter System (Cluster)

Sputter System (Batch)

Sputter System (Batch)

Acid Wet-station(산업화)

Acid Wet-station(산업화)

Automated Mask Aligner I

Automated Mask Aligner I

Contact Aligner I (Manual)

Contact Aligner I (Manual)

Automated Mask Aligner II

Automated Mask Aligner II

Automated Mask Aligner III(8 inch)

Automated Mask Aligner III(8 inch)

Automated Mask Aligner IV (8 inch)

Automated Mask Aligner IV (8 inch)

Contact Aligner VIII

Contact Aligner VIII

CD SEM

CD-SEM I (9260)

CD-SEM II (8820)

CD-SEM II (8820)

Spray Developer

Spray Developer

E-beam lithography I (9300)

E-beam lithography I (9300)

Box Furnace

Box Furnace

Laminating Machine

Laminating Machine

Mask Cleaner

Mask Cleaner

Nano Imprint

Nano Imprint

Convection oven I

Convection oven I

Convection oven II

Convection oven II

Spin Coater ll

Spin Coater ll

KrF Stepper

KrF Stepper

l-line Stepper

l-line Stepper

Track I (2-3 inch)

Track I (2-3 inch)

Track II (4-6 inch)

Track II (4-6 inch)

Track III (4-6 inch)

Track III (4-6 inch)

Track IV (4-6 inch)

Track IV (4-6 inch)

Track V (8inch)

Track V (8inch)

FE SEM I

FE SEM I

FE SEM III

FE SEM III

Analytic STEM

Analytic STEM

HR-TEM II

HR-TEM II

XPS

XPS

Electrochemical CV Profiler

Electrochemical CV Profiler

Hall effect Measurement System

Hall effect Measurement System

MOCVD (epi) I

MOCVD (epi) I

MOCVD (epi) II

MOCVD (epi) II

MOCVD(epi) III

MOCVD(epi) III

MOCVD(epi) IV

MOCVD(epi) IV

MOCVD(epi) V

MOCVD(epi) V

MOCVD(epi) Ⅵ

MOCVD(epi) Ⅵ

MOCVD(epi) VII

MOCVD(epi) VII

Photoluminescence

Photoluminescence

Acid Wet-station(R&D)

Acid Wet-station(R&D)

Alkali Wet-station(R&D)

Alkali Wet-station(R&D)

Organic Wet-station(R&D)

Organic Wet-station(R&D)

SPM Wet-station(R&D)

SPM Wet-station(R&D)

Atomic Layer Deposition - Metals

Atomic Layer Deposition - Metals

Atomic Layer Deposition - Insulators

Atomic Layer Deposition - Insulators

Wafer Backside Cleaner

Wafer Backside Cleaner

W / Oxide CMP

W / Oxide CMP

Cu CMP

Cu CMP

DC measurement system for high power devices

DC measurement system for high power devices

Automatic Elipsometer

Automatic Elipsometer

Cu Plating Machine for Damascene

Cu Plating Machine for Damascene

FIB Ⅲ (model : Helios 5 UX, Thermofisher)

FIB Ⅲ (model : Helios 5 UX, Thermofisher)

RF Power Measurement System

RF Power Measurement System

Overlay Metrology System

Overlay Metrology System

Auto Precision Grinding and Polishing System

Auto Precision Grinding and Polishing System

Rapid Thermal Process System

Rapid Thermal Process System

Endura sputter

Endura sputter

Evatec sputter

Evatec sputter

8 inch Wafer Automatic Sheet Resistance Measurement System

8 inch Wafer Automatic Sheet Resistance Measurement System

W / plasma CVD

W / plasma CVD

Auto Wet Station

Auto Wet Station

국소 레이져 전계형 원자단층현미경

3D Atom Probe Tomography (LEAP4000X HR)

비접촉 3D 형상측정기

3D Conforcal Scanning Microscope (3DCSM)

3차원 프로파일러

3D Profiler

4단 면저항 측정기-1

4 Point Probe - 1

원자층증착장치

Atomic Layer Deposition (ALD)

선폭&표면 측정장치

CD&Surface inspection system

임계치수 측정 주사현미경

CD-SEM

커브트레이서 및 프로브 스테이션

Curve Tracer & Probe Station

DC&RF 물리증착장비

DC&RF Sputtering system

이온실리콘식각장치

Deep Reactive Ion Etcher(DRIE) - 1

실리콘 고종횡비 식각장치 - 2

Deep Reactive Ion Etcher(DRIE) - 2

절연막건식 식각 장비

Dry Etcher - TEL

플라즈마 유도결합 식각장치

Dry Etcher_DMS

산화막 식각장치

Dry Etcher_Oxide

다결정규소막 식각장치

Dry Etcher_Poly Si

ICP 식각 장치 - 2

Dry-Etcher_Ulvac

전자빔증착기-1

E-Beam Evaporator - 1

전자빔 증착장비

E-beam Evaporator-2

전자빔리소그래피시스템-1

E-Beam Lithography System - 1

전자빔리소그래픽시스템-2

E-Beam Lithography System - 2

집속이온빔 Ⅰ

Focused Ion Beam -Ⅰ(Helios 600 with TKD)

집속이온빔 Ⅱ

Focused Ion Beam -Ⅱ(Helios 650 with EBSD)

집속이온빔 Ⅲ

Focused Ion Beam -Ⅲ(Helios G3 CX)

집속이온빔 Ⅳ

Focused Ion Beam -Ⅳ(SMI 3050)

고온열처리로-II

Furnace High Temp anneal_SiC

열처리 장비

Furnace Metal Anneal

고온 습식/건식 산화로

Furnace Oxidation_LEAD

전계 방출형 주사전자현미경

High Resolution FE-SEM- Ⅲ (Hitachi S-4800 )

전계 방출형 주사전자현미경

High Resolution FE-SEM-Ⅱ (JSM 7800F PRIME with Dual EDS)

전계 방출형 주사전자현미경

High Resolution FE-SEM-I (JSM 7401F)

전계방출전자현미경

HR FE-SEM (in Clean Room)

구면수차보정 투과전자현미경

HR FE-TEM -2200FS with Image Spherical Aberration Corrector

구면수차보정 투과전자현미경

HR-[S]TEM-Ⅰ(2100F with Probe Cs-Corrector)

노광기-1

I-Line Stepper - 1

노광기-2

I-Line Stepper - 2

노광기-4

I-Line Stepper - 4

노광기-3

I-Line Stepper - 3

저압 화학증착장치

LP-CVD

마스크얼라이너

Mask Aligner_MA6

마스크 정렬 노광 장비

Mask Aligner_MA8

마스크리스 레이저 리소그래피 시스템

Maskless laser lithography system

Metal Lift-Off

Metal Lift-Off

NEMS 제작을 위한 Base System

NEMS White Wet station - Organic

NEMS 제작을 위한 Base System

NEMS Yellow Wet station - Acid

NEMS 제작을 위한 Base System

NEMS Yellow Wet station - Organic

OLED 증착장비(200x200 glass)

OLED Systems

광학현미경-Etch

Optical Microscopes - Etch

광학현미경-I

Optical Microscopes - Photo

광학현미경-THinFilm

Optical Microscopes - ThinFilm

광학현미경-Diffusion

Optical Microscopes-Diffusion

광학현미경-EBL

Optical Microscopes-EBL

플라즈마증착장치 - P5000

PE-CVD - P5000

PECVD System P-5000

PECVD System P-5000

플라즈마증착장치-1

PE-CVD-1

플라즈마증착장치-2

PE-CVD-2

메탈 공정용 감광막 제거 장치

PR Asher for BEOL

감광제 제거 시스템-I

PR Asher_FEOL - 1

감광제 제거 시스템-Ⅱ

PR Asher_FEOL - 2

자외선 트렉 시스템

PR Track_DAVID

8인치 트렉 시스템-1 (SVS)

PR Track_SVS - 1

8인치 트렉 시스템-2 (SVS)

PR Track_SVS - 2

8인치 트렉 시스템-3 (SVS)

PR Track_SVS - 3

트렉 시스템-I

PR Track_TEL - 1

프로브스테이션_파워반도체(소자)

Probe Station_Power Semiconductor

PZT 박막스퍼터링 시스템

PZT sputtering

급속열산화막용 급속열처리기

RTP for RTO

실리사이드용 급속열처리기

RTP for Silicide

2차이온질량분석기

Secondary Ion Mass Spectrometry (SIMS)

박막두께측정기

Spectroscopic Ellipsometer

스핀건조기

Spin Rinse Dryer

물리증착장치(스퍼터)- I

Sputter_ENDURA - 1

물리증착장치(스퍼터)- II

Sputter_ENDURA - 2

스트레스측정시스템

Stress Measurement System

초고진공화학기상증착기

UHV-CVD

가시/자외선/근적외선 분광광도계

UV/Vis/nIR Spectrometer

세정 및 에칭장치

Wet Station_Acid - 1

확산로 Parts

Wet Station_Acid - 2

습식현상

Wet Station_Organic

세정 및 에칭장치 - 3

Wet Station_Acid - 3

Track VII(4-6inch)

Track VII(4-6inch)

Furnace

Furnace

Metal Etcher

Metal Etcher

Insulator / Si Etcher

Insulator / Si Etcher

SiC Etcher

SiC Etcher

RF Noise Parameter Measurement

RF Noise Parameter Measurement

Wafer Defect Inspection

Wafer Defect Inspection

HDP-CVD

HDP-CVD

Defect-Review SEM

Defect-Review SEM

Acid / Organic wet station

Acid / Organic wet station

Wafer Bonding System

Wafer Bonding System

XRF

XRF

Pattern Design Tool

Pattern Design Tool

Sputter(E5500)

Sputter(E5500)

Ion Coater

Ion Coater

Solar simulator

Solar simulator

PIPS I

PIPS I

텅스텐 화학기상 증착장치

CVD W

고전류 이온주입장치

High Current Implant

고에너지 이온주입장치

High Energy Implant

급속 열처리장치

RTP - Non Metal

급속 열처리장치

RTP - Metal

화학기상 증착장치

a-Si/Oxide/Nitride

구리용 스퍼터

CMOS Sputter - Ti/TiN/Co/Al

급속 열처리장치

RTP - Non Metal

실리콘 건식식각장치

Deep Si Etcher

웨이퍼 레벨 3차원 비파괴 검사시스템

WL 3D SAM

이온반응식각장치

Reactive Ion Etcher

고종횡비 실리콘 식각 장비

Deep Si Etcher

진공포장기

Vacuum Packaging

고성능 유세포 측정분석기

Flow Cytometer

건식 식각 장치

Dry etch

감광제 제거 장비

PR STRIP

저압 화학기상 증착로

LPCVD Nitride

300mm 매엽식 세정 장치

Single wafer cleaner

300mm 두께 측정 장비

Thickness Meas.

극자외선축소투영노광시스템

KrF inline Nikon scanner

중전류 이온주입 장치

Medium Current

표면탄성파 발생기

표면탄성파 발생기

마이크로 패터닝 시스템

마이크로패터닝

마이크로 전극성형기

Micro electrode patterning

체외진단용 유전자 증폭기

Real Time PCR

Metal etcher

Metal etcher

반도체 기판의 휨 측정 장비

반도체 기판의 휨 측정 장비

패턴 웨이퍼 결함 검사 장비

Defect Inspection System

고종횡비 산화막 건식식각장치

Oxide Etcher

연속증착식각장치

Continuous deposition & etching equipment

라만 분광기

Raman Spectrometer

임계점 건조장치(불용, 폐기예정)

CPD

폴리실리콘 증착로

Poly Furnace

화학기상 증착로

TEOS Furnace

만능재료 시험기

만능재료 시험기

파티클오염 검수장치

particle counter

플립 칩 본더

Flip chip bonder

복합환경시험기

복합환경시험기

300mmm 금속증착 장비

Sputter

대기압 플라즈마처리

대기압 플라즈마처리

초음파 발생기

Ultrasonic generator

HDPCVD

HDPCVD

감광제 제거장치

PR Stripper

웨이퍼 연삭 및 연마 장치

Back Grinder

멤스용 열처리 확산로

MEMS Furnace

플로팅 커팅기

Plotting Cutting

BiO Wet Station

BiO Wet Station

엑스선 회절분석기

XRD

3차원 가상 공정 시뮬레이터

SEMulator3D

자동핵산 추출기

Nucleic Acid Extractor

고진공 패키징 장치

High Vacuum Sealing system

실시간 유전자 증폭기

실시간 유전자 증폭기

Bio-SEM

Bio-SEM

Spray coater

Spray coater

CVD W

CVD W

PECVD

PECVD

PECVD

PECVD

가변 레이저 시스템

가변 레이저 시스템

웨이퍼 세정 장비

Metal_Solvent

임프린트 시스템

Imprinter

연삭용 필름 제거 장치

Tape Remover

신소재 세정장치

신소재 Wet Station

단광자 검출기

Superconducting Nanowire Single Photon Detector

바이오 스핀 코터

BiO Spin Coater

Linux server (dotori)

Linux server (dotori)

스텔스 레이져 다이싱 장치

Stealth Laser Dicer

면저항 측정기

(Sensor) 4-point Probe

필름 라미네이터

Film Laminating

고성능 표면 플라즈몬 공명 분석장비

Surface Plasmon Resonance

자동 양면 마스크 얼라이너 장비

Automated Doubleside Contact Aligner

액침 불화아르곤 엑시머 레이저 노광기

ArF Exposing

자동감광제 도포장치(ArF용)

Track

임계치수 전자주사현미경

CDSEM

열 산화막 성장로

Oxidation

플라즈마 화학기상 증착 장비

PECVD

원자층 이온빔 식각장치

원자층 이온빔 식각장비

레이저 어닐장치

Laser Anneal

Desktop SEM

Desktop SEM

Low Temp. PECVD

Low Temp. PECVD

나노폴리머 기상증착기

i-CVD

웨이퍼 면취 장치

Edge Grinder

연삭용 필름 라미네이션 장치

Tape Laminater

멤스용 화학기상 증착장치

Multiple PECVD

엑스선 광전자 분광기

XPS

ion Beam Evaporator

ion Beam Evaporator

Semi-auto Vacuum Probe Station

Semi-auto Vacuum Probe Station

비행시간형 이차이온질량분석기

Time-of-Flight SIMS

200mm 다중 챔버 원자층 증착 시스템

Multi-chamber ALD System

웨이퍼 세정 장비

Wet Station - Post Cleaner

산화막 화학적 기계적 연마장치

CMP(OXIDE)

층간패턴 중첩도 측정장치

Overlay measurement

압전박막 결정성장 증착장비

AlN sputter

마이크로 유체 분석기

Microfluidic analyzer

OPC

OPC

웨이퍼 본더

Multi stack wafer bonder

FOUP 세정장치

FOUP Cleaner

레이저 마이크로 시스템

Laser Micromachining System

Vacuum Probe Station

Vacuum Probe Station

근적외석 카메라

Photonics SWIR Camera

진공포장기

Vacuum Packaging

다기능 엑스선 광전자 분광기

다기능X선 분광기

Wafer 분류

Wafer 분류

나노구조 캐스팅 장치

nanostructure casting

와이어 본딩 시스템

Wire Bonding System

Multi-function fs laser systems

Multi-function fs laser systems

ICP-MS

ICP-MS

웨이퍼 세정 장비

Non_Metal

웨이퍼 세정 장비

Metal_Acid

자동 웨이퍼 본딩장치

GEMINI Wafer Bonder

웨이퍼 절단 장치

Dicing Machine

멤스용 화학기상 증착장치

MEMS PETOS

고분해능 전계방출형 주사전자현미경

UHR FE-SEM

초음파 융착기

Sonic Bonding

고속원심분리기

Centrifuge

2D Materials (가상)

2D Materials (가상)

마이크로 클리빙 장치

Micro Cleaving System

엘라이저 리더

ELISA Spectrophotometer

자동 감광제 도포장치

Auto Track for Aligner

수동 감광제 도포 및 가열장치

Manual Coater

수동 세정장치

MEMS Wet Station - Develop

컵타입 전해도금장치

NEMS - Electroplater

저응력 질화막 증착로

Low Stress Nitride

다중타겟 스퍼터

Multi-target sputter

편광 현미경

Polarizing microscope

nano polymer casting machine

nano polymer casting machine

비파괴 선폭측정 주사현미경

CD-SEM

Maskless Aligner

Maskless Aligner

300mm 웨이퍼 분류장치

Wafer 분류

300mm용 주사탐침현미경

300mm용 AFM

필름 제거 세정 장치

Film strip cleaner

폴리머 몰딩 장치

polymer molding

고분해능 전계방사형 주사전자현미경

Inline FE-SEM

접촉식 단차측정기

(SENSOR) 2D Profile, Surface Parameter

분광반사율측정기

(Sensor) 두께측정 장비 - Thick Film

저온 이온빔 단면가공기

Cooling Cross Section Polisher

레이저 마킹장치

Wafer ID Marker

원자 탐침 단층현미경

Atom Probe Tomography

저압 화학기상 증착로

Nitride Furnace

불화아르곤 노광기

ArF inline scanner

공초점 레이저 주사 현미경

Confocal Laser Scanning Microscope

포토마스크 제작장치(가상코드)

Litho mask fabrication

비표면적분석기

비표면적 분석기

Auto Lift-off M/C

Auto Lift-off M/C

열중량/시차주사열량 동시 열분석기

TGA DSC

겔투과 크로마토그래피

겔크로마토그래피(GPC)

충방전 테스트 시스템

충방전 테스트

듀얼집속이온빔장치

DB_Helios 5 UX

FE-SEM(S4800-2)

FE-SEM(S4800-2)

급속 열처리장치

Spike RTP

Wet cleaning

Wet cleaning

분광 반사율 측정기

CMOS 두께측정 장비 - Thick Film

분광 반사율 측정기

NEMS 두께측정 장비 - Thick Film

분광타원편광해석기

CMOS 두께측정 장비 - Thin Film, Index, M

분광 반사 및 타원해석기

CMOS 두께측정 장비 - Pattern, Flat, Index

면저항 측정기

(NEMS) 4-point Probe

표면단차측정기

(NEMS) 2D Profile, Surface Parameter

잔류응력 측정기

Stress Gauge

전계방출형 투과전자현미경

FE-TEM (300 kV)

200 kV 전계방출형 투과전자현미경

FE-TEM (200 kV)

구면수차보정 주사투과전자현미경

Cs-corrected STEM

이온연마장치

TEM - Sample Preparation

듀얼집속이온빔장치

8-inch DB-FIB (EDS)

듀얼집속이온빔장치

DB-FIB

싱글집속이온빔장치

SB-FIB

전계방출형 주사전자현미경

FE-SEM (EDS)

전계방출형 주사전자현미경

FE-SEM (S4800-1)

주사탐침현미경

SPM (PSIA)

적외선 분광기

FT-IR Microscope

나노압입시험기

Nano Indenter XP

매뉴얼 프로브 스테이션

Manual Probe Station

세미오토 프로브 스테이션

Semi-auto Probe Station

자동 프로브 스테이션

Auto Probe Station

세정장비

Wet Station

오토스테이지 광학현미경

Auto-stage Microscope

이온반응식각장치

RIE

Material Analysis

Material Analysis

자기섹터 이차 이온 질량분석기

Magnetic Sector SIMS

접촉식 마스크 노광기

Contact Aligner

비표면적 측정장치

Micromeritics BET

입도 분석기

Particle Size Analyzer

글러브박스

Glove Box

진공오븐

Vacuum Oven

수동 세정장치

MEMS Wet Station - Develop

자동 감광제 도포장치

MEMS Track for Aligner

멤스용 세정장치

Wet Station - NEMS Acid

멤스용 세정장치

Wet Station - NEMS Solvent

다중물리센서 설계 소프트웨어

MEMS 설계툴 (Coventorware)

화학물리적 구리박막 연마장치

NEMS-CMP(UNIPLA 231)

컵타입 전해도금장치

NEMS - Electroplating

Vacuum Furnace

Vacuum Furnace

고면저항 측정기

(CMOS) 4-Point Probe

다중타겟 스퍼터

Multi-Sputter

전자선용 감광제 도포장치

E-beam 용 Track

자동 화학기상 증착장치

PECVD(Auto)

압전물질 건식 식각

압전물질 건식 식각

고진공 웨이퍼 본딩장치

High Temp Fusion Bonder

극자외선축소투영노광시스템

KrF ASML Inline Scanner

자동 감광제 도포장치

I-line Track(Thin & Thick PR)

스탭식투영노광장치

I-line Stepper

스탭식투영노광장치

I-line Stepper

전자선 리소그라피시스템

E-beam System (JEOL)

비파괴 선폭측정 주사현미경

CD SEM(Hitachi 9260)

층간패턴 중첩도 측정장치

Overlay Measurement

파티클오염 검수장치

Particle Counter

접촉식 마스크 노광기

Contact Aligner

접착 및 압인 가공장치

Fusion Bonder / Hot Embossing

산화물 식각장치

Dielectirc / Poly Etcher

폴리메탈 식각장치

Poly / Metal Etcher + PR Strip

감광제 제거장치

PR Stripper

멀티챔버 식각장치

Metal Etcher - Al,Ti,TiN,W

산화물 식각장치

Dielectric Etcher - BEOL

폴리머 식각장치

Polymer Etcher

멤스용 감광제 제거장치

PR Stripper - NEMS 전용

감광제 제거장치

PR Stripper

마스크 제작기

Mask Generator

마스크 세정장치

Mask Cleaner

금속 식각장치

Metal Etcher - Al,Ti,TiN

화학물리적 산화막 연마장치

CMP

고온 열처리 확산로

Non Metal Furnace - High Temp

열처리 확산로

Non Metal Furnace - Gate Ox

열처리 확산로

Non Metal Furnace

열처리 확산로

Metal Furnace

수직형 열처리 확산로

Non Metal Furnace - Vertical

멤스용 저온 열처리로

NEMS - Low Temp Anneal Furnace

저응력 질화막 증착로

Low Stress Nitride

멤스용 열처리 확산로

NEMS - Furnace

멤스용 저압화학기상 증착로

NEMS - Poly Furnace

폴리머 도포장치

Parylene Coater

저압 화학기상 증착로

Poly Furnace

저압 화학기상 증착로

TEOS Furnace

저압 화학기상 증착로

Nitride Furnace

저온 열처리 확산로

Low Temp Anneal Furnace

다중타겟 스퍼터

NEMS - Multi Target Sputter

전자빔증착장치

NEMS - E-Beam Evaporator

전자빔증착장치

NEMS - E-Beam Evaporator

고속 회전 절삭기

Dicing Sawing - Glass

고속 회전 절삭기

Dicing Sawing - Si

화학기상 증착장치

SiH4 Base PECVD/HDP

화학기상 증착장치

PETEOS/BPSG

티타늄 물리기상 증착장치

CMOS Sputter - Ti/TiN/Co/Al

ICP 식각장치

Dry Etcher_ICP

NEMS 제작을 위한 Base System

NEMS White Wet station - Acid

표면장력측정시스템

Surface Potential Measurement System

스퍼터 (OLED)

Sputter (OLED)

감광막 도포 시스템

PR Spin Coater_Sawatec

마스크 정렬 노광 장비

Mask Aligner ME

웨이퍼 마커

Wafer Laser Marker

NEMS 제작을 위한 Base System

NEMS Base System (optical microscope)

알파스텝(ME)

Alpha-Step (ME)

원자탐침현미경

Atomic Force Microscope-Ⅱ(Jupiter XR)

NEMS HigH Accelerate

NEMS HigH Accelerate

NEMS Temperature Cycle

NEMS Temperature Cycle

ion beam evaporator

ion beam evaporator

Wet cleaning

Wet cleaning

metal etch

metal etch

UV Curing

UV Curing

Hot Plate Baker I

Hot Plate Baker I

XRF

XRF

FE SEM IV

FE SEM IV

I-line Stepper II(양자팹)

I-line Stepper II

Microscope II

Microscope II

poly etch

poly etch

ArF DRY용 Track

ArF DRY용 Track

Track System

Track System

TEL ACT-8 Track System

TEL ACT-8 Track System

S204B용 track

S204B용 track

광학현미경

광학현미경

M-SIMS(A)

M-SIMS(A)

NEMS Spin Coater

NEMS Spin Coater

세정 장치

Wet cleaning

BiO Wet Station

Microwave Asher (Dual)

Microwave Asher (Dual)

Probe station II (FC-MO10으로통합)

Probe station II (FC-MO10으로통합)

FE SEM II

FE SEM II

CL(Cathodoluminescence) System

CL(Cathodoluminescence) System

Deep etcher VI(R&D)

Deep etcher VI(R&D)

HDPCVD 1호기(SiO2)

C-HDPCVD (01)

홀 효과 측정기

Hall Effect Measurement

유도 결합 플라즈마 식각 장비 (05)

Deep Si Etcher (01)

유도 결합 플라즈마 식각 장비 (06)

ICP HT Metal Etcher (02)

BMR ICP Etcher (07)

ICP Compound Etcher

유도 결합 플라즈마 식각 장비 (08)

ICP Dielectric Etcher (01)

RIE Etcher (신소재,09)

RIE Etcher (01) (신소재)

RIE Etcher(화합물,08)

RIE Etcher (02) (화합물)

ICP Metal Etcher (01)

ICP Metal Etcher (01)

중전류 이온주입 장비

Ion Implanter

LOGIC ANALYZER (01)

LOGIC ANALYZER (01)

LOGIC ANALYZER (02)

LOGIC ANALYZER (02)

레이져 홀로그래피 시스템

Laser Holography System

LPCVD(리드)

C-LPCVD (04)

LPCVD 3호기 [Poly-si, SiN]

C-LPCVD (03)

마스크리스 리소그래피 시스템 (01)

Maskless lithography system (01)

마스크리스 리소그래피 시스템 (02)

Maskless lithography system (02)

금속 산화물 스퍼터 (01) SNTEK

Metal-Oxide Sputter (01)

금속 산화물 스퍼터 (02) SRN sputter 2

Metal-Oxide Sputter (02)

네트워크분석기 (01)

네트워크 분석기

광학 현미경 (01)

Optical Microscope (01)

2D 표면 단차 측정기 (01)

C-Surface Profiler

2D 표면 단차 측정기 (02)

2D Surface Profiler (02)

2D 표면 단차 측정기 (03)

Surface Profiler

3D 표면 단차 측정기 (02)

3D Surface Profiler (02)

4-포인트 프로브 (02)

4-Point Probe

4-포인트 프로브 (03)

C-4-Point Probe

원자 힘 현미경 (01)

AFM (01)

원자 힘 현미경 (02)

AFM (02)

씨모스 원자층 증착 장비 (01)

C-ALD (01)

원자층 증착 장비 (01)

ALD (01)

원자층 증착 장비 (02)

ALD (02)

얼라이너 (01)

Aligner (01)

얼라이너 (02)

Aligner (02)

Acid-Solvent-Wet Station (21)

Wet Station (21) (Acid-Solvent)

ARBITRARY WAVEFROM GENERATOR (01)

Arbitrary Wavefrom Generator

Acid-Wet Station (01)

Wet Station (01) (Acid)

Acid-Wet Station (02)

Wet Station (02) (Acid)

Acid-Wet Station (03)

Wet Station (03) (Acid)

Acid-Wet Station (04)

Wet Station (04) (Acid)

Acid-Wet Station (WA-5)

Wet Station (05) (Acid)

Acid-Wet Station (12)

Wet Station (12) (Acid)

Acid-Wet Station (13)

Wet Station (13) (Acid)

Acid-Wet Station (14)

Wet Station (14) (Acid)

Acid-Wet Station (17)

Wet Station (17) (Acid)

화학적 건식 식각 장비

C-Chemical Dry Etcher

임계치수 측정 주사전자현미경

C-CD-SEM

In-Line 임계치수 측정 주사전자현미경

CD-SEM

CMP (01)

C-CMP (02)

플라즈마 화학기상증착기 및 자기 강화 반응성 이온 식각기 (01)

PECVD/RIE System

P5000 4호기 [TEOS-CVD, W-CVD, SiO/SiN ETCH]

C-PECVD/RIE System

깊이 측정 현미경

Depth Measurement Microscope

오실로스코프 (01)

오실로스코프 (01)

오실로스코프 (02)

오실로스코프 (02)

전자빔 리소그래피

E-Beam Lithography

에너지 분산 X선 분광기

EDS

엘립소미터 (01)

C-Ellipsometer (01)

엘립소미터 (02)

C-Ellipsometer (02)

엘립소미터 (03)

Ellipsometer

비트에러율테스터 (01)

고성능비트에러율테스터 (01)

비트에러율테스터 (02)

고성능비트에러율테스터 (02)

비트에러율테스터 (03)

고성능비트에러율테스터 (03)

전자빔 금속 증착 장비 (01)

E-Gun Evaporator (01)

전자빔 금속 증착 장비 (02)

E-Gun Evaporator (02)

퍼니스 (01)

C-Furnace (01)

퍼니스 (02)

C-Furnace (02)

MEMS Furnace

Furnace

Mini Furnace

Mini Furnace

씨모스 원자층 증착 장비 (03)

C-ALD (03)

씨모스 원자층 증착 장비 (04)

C-ALD (04)

원자층 증착 장비 (03)

ALD (03)

유도 결합 플라즈마 식각 장비 (13)

Deep Si Etcher (02)

파장 분산 엑스선 형광 분석기

WD-XRF

C-Furnace (03)

C-Furnace (03)

광학 현미경 (02)

Optical Microscope (02)

광학 현미경 (03)

Optical Microscope (03)

광학 현미경 (04)

Optical Microscope (04)

광학 현미경 (05)

Optical Microscope (05)

광학 현미경 (06)

Optical Microscope (06)

PR 건식 애셔 (02)

Asher (03)

PR 건식 애셔 (01)

C-Asher

패럴린 막 증착 장비

Parylene Deposition System

OXFORD PECVD [SiO2, Si3N4]

PECVD

PULSE GENERATOR (01)

Pulse Generator

PR 플라즈마 애셔 (1)

Asher (01)

PR 플라즈마 애셔 (2)

Asher (02)

i-line 스테퍼

C-i-line Stepper

PR 트랙 장비 (01)

C-Track

PR 트랙 장비 (02)

Track

리플렉토미터(Nanospec) (01)

C-Reflectometer

리플렉토미터(Nanospec) (02)

Reflectometer

RTA (급속열처리장치_non CMOS)

RTA (02)

RTA (04)

RTA (04)

전계 방출형 주사전자현미경 (01)

FE-SEM (01)

전계 방출형 주사전자현미경 (02)

FE-SEM (02)

슈퍼 잉크젯 프린터

Super Inkjet Printer

스트레스 측정기

Stress Measurement

반도체 소자 특성 측정기 (01)

SPA-IV (01)

반도체 소자 특성 측정기 (02)

SPA-IV (02)

반도체 소자 특성 측정기 (03)

SPA-IV (03)

반도체 소자 특성 측정기 (04)

SPA-IV/CV (01)

반도체 소자 특성 측정기 (05)

SPA-IV/CV (02)

스핀 코터 (01)

Spin Coater (01)

스핀 코터 (02)

Spin Coater (04)

스핀 코터 (06)

Spin Coater (06)

스핀 코터 (05)

Spin Coater (02)

스핀 코터 (06)

Spin Coater (03)

스피너 (03)

Spin Coater (05) (E-BEAM)

금속 스퍼터 (01)

Metal Sputter (03)

금속 스퍼터 (01)

Metal Sputter (01)

금속 스퍼터 (02)

Metal Sputter (02)

씨모스 금속 스퍼터 (01) Endura 2

C-Metal Sputter (01)

금속 스퍼터 (04)

Metal Sputter (04)

Spin Rinse Dryer (1)

Spin Rinse Dryer (01)

Spin Rinse Dryer (2)

Spin Rinse Dryer (02)

Spin Rinse Dryer (3)

Spin Rinse Dryer (03)

Spin Rinse Dryer (4)

Spin Rinse Dryer (04)

Spin Rinse Dryer (5)

Spin Rinse Dryer (05)

Spin Rinse Dryer (6)

Spin Rinse Dryer (06)

Spin Rinse Dryer (7)

Spin Rinse Dryer (07)

Spin Rinse Dryer (8)

Spin Rinse Dryer (08)

Spin Rinse Dryer (9)

Spin Rinse Dryer (09)

씨모스 원자층 증착 장비 (02)

C-ALD (02)

Spin Rinse Dryer (10)

Spin Rinse Dryer (10)

Spin Rinse Dryer (11)

Spin Rinse Dryer (11)

스펙트럼 분석기 (02)

스펙트럼 분석기 (02)

스펙트럼 분석기 (01)

스펙트럼 분석기 (01)

STI CMP (01)

C-CMP (01)

Solvent-Wet Staion (06)

Wet Station (06) (Solvent)

Solvent-Wet Staion (08)

Wet Station (08) (Solvent)

Solvent-Wet Staion (09)

Wet Station (09) (Solvent)

Solvent-Wet Staion (10)

Wet Station (10) (Solvent)

Solvent-Wet Staion (18)

Wet Station (18) (Solvent)

Solvent-Wet Staion (20)

Wet Station (20) (Solvent)

Solvent-Wet Staion (24)

Wet Station (24) (Solvent)

열 금속 증착 장비 (01)

Thermal Evaporator

HW-CVD [α-Si, SiN]

HWCVD

VECTOR SIGNAL GENERATOR (01)

Vector Signal Generator

와이어 볼 본딩 장비

Wire Ball Bonder

웨이퍼 절삭기 (02)

Dicing Saw (02)

웨이퍼 절삭기 (03)

Dicing Saw (03)

유도 결합 플라즈마 식각 장비 (01)

C-ICP Poly Si Etcher (01)

유도 결합 플라즈마 식각 장비 (02)

C-ICP Poly Si Etcher (02)

유도 결합 플라즈마 식각 장비 (04)

C-ICP Dielectric Etcher

LPCVD 1호기 [α-Si, MTO, SiN]]

C-LPCVD (01)

Acid-Wet Station (16)

Wet Station (16) (Acid)

RTP (급속열처리장치_전기로)

C-RTP

HDPCVD 2호기(SiO2)

C-HDPCVD (02)

유도 결합 플라즈마 식각 장비 (03)

C-ICP Metal Etcher

Acid-Wet Station (15)

Wet Station (15) (Acid)

RTA (급속열처리장치_CMOS RTA)

C-RTA

Microscope IV

Microscope IV

Microscope VI (Auto-Loader)

Microscope VI (Auto-Loader)

Track System #1

Track System #1

Track System #3

Track System #3

Stepper (I-line#11)

Stepper (I-line#11)

Stepper (I-line#12)

Stepper (I-line#12)

Contact aligner

Contact aligner

Projection aligner

Projection aligner

Oven #1

Oven #1

Oven #2

Oven #2

CD-SEM

CD-SEM

SOG Coater

SOG Coater

Medium Ion Implanter

Medium Ion Implanter

High Ion Implanter

High Ion Implanter

Furnace 11_metal

Furnace 11_metal

Furnace 12_Non metal

Furnace 12_Non metal

Furnace 13_Non metal

Furnace 13_Non metal

Furnace 14_Non metal

Furnace 14_Non metal

Furnace 21_Non metal

Furnace 21_Non metal

Furnace 22_Non metal

Furnace 22_Non metal

Furnace 23_Non metal

Furnace 23_Non metal

Rapid Thermal Anneal

Rapid Thermal Anneal

LPCVD 24_Non metal

LPCVD 24_Non metal

LPCVD 31_Non metal

LPCVD 31_Non metal

LPCVD 32_Non metal

LPCVD 32_Non metal

LPCVD 33_Non metal

LPCVD 33_Non metal

LPCVD 34_Non metal

LPCVD 34_Non metal

E-Beam Evaporator

E-Beam Evaporator

Laser Marking

Laser Marking

Wet Station #6

Wet Station #6

ICP Dry Etcher_Non metal

ICP Dry Etcher_Non metal

PR Strip #1

PR Strip #1

PR Strip #2_Non metal

PR Strip #2_Non metal

PR Strip #3_Non metal

PR Strip #3_Non metal

Film Measurement #1

Film Measurement #1

Spectroscpic Ellipsometer #3

Spectroscpic Ellipsometer #3

4-point Probe #1

4-point Probe #1

4-point Probe #2

4-point Probe #2

Long Scan Profiler

Long Scan Profiler

Particle Counter

Particle Counter

Microscope #1

Microscope #1

FE-SEM

FE-SEM

Wire Bonding #1

Wire Bonding #1

ETRI Engineering Machine (개별 R&D장비)

ETRI Engineering Machine (개별 R&D장비)

Contact Aligner (Operator Support)

Contact Aligner (Operator Support)

ITO Deposition (Operator Support)

ITO Deposition (Operator Support)

Low Temp PECVD (Operator Support)

Low Temp PECVD (Operator Support)

외부 장비

외부 장비

I-line축소노광기

I-line stepper

전자빔묘화공정시스템

전자빔묘화공정시스템

스핀코팅기

manual spin coater_4inch

포토레지스트트랙시스템

Photoresist Track System

축소미세노광장비

I-line stepper

기판접합용 정렬기

Substrate bond aligner

나노임프린팅 시스템

Nano-imprinting lithography system

3차원 공정시스템

3D fabrication system

마스크 매엽식 세정장치

Mask Single Wet Tool

전자빔리소그래피 시스템

Electron beam lithography system

레이저 라이터

Laser writer

진공건조기

Vacuum Oven

스핀코팅기

spin coater(6inch)

스핀코팅기

spin coater(pieces)

자동마스크정렬기

Automatic mask aligner

스핀코팅기(포토레지스트 트랙시스템)

PR track system

기판그라인딩시스템

Substrate grinding system

기판폴리싱시스템

Substrate polishing system

기판 절단 시스템

Substrate dicing saw system

포토습식세정장비

Photo Wet Station

급속열처리시스템

RTP(Rapid Thermal Process) System

열확산로시스템

Diffusion furnace

수평 열처리 시스템

Horizontal Annealing Furnace

수직 열처리 시스템

Vertical Annealing Furnace

포클열확산로 시스템

POCl3 diffusion furnace system

화학기계연마시스템

화학기계연마시스템

패턴 임계치수측정 주사전자현미경

패턴 임계치수측정 주사전자현미경

기판두께측정장비

Substrate measurement system

레이저마킹시스템

substrate Marking system

저진공 전자현미경

Low Vacuum Microscope

접촉각 측정 시스템

Contact angle measurement system

비접촉 미세형상 측정기

Optical surface profiler

기상 자기조립박막 증착시스템

Vapor Self-Assembled Monolayer deposition system

급속열처리장비

Rapid Thermal Processor

초음파탐상이미징장비

Scanning Acoustic Microscope

중전류형 이온주입장비

Medium current ion implanter

박막스트레스측정시스템

Film stress measurement system

금속습식세정장비

Metal Wet Station

표면저항측정시스템

Sheet Resistance Measurement System

웨이퍼 건조기

Spin Rince Dryer

웨이퍼식각기(Cleaning)

cleaning wet station

웨이퍼 건조기

Spin Rince Dryer

검사용 마이크로스코프

Inspection microscope(semi-auto)

단차측정기

Surface profiling measuring system

다기능직류형이온밀링시스템

다기능직류형이온밀링시스템

고성능 산화막식각장비

Deep oxide/SiC etching system

화합물반도체 식각장비

Compound semiconductor etching system

금속 습식식각장비

Metal wet etch station

실리콘 습식식각장비

Si wet etch station

클러스터 건식 식각기

Cluster Dry etcher

제논 릴리즈 식각시스템

Xenon Release etcher system

절연막 식각기

Dielectric Etcher system

웨이퍼식각기(Etching)

etch wet station

실리콘 고준위 식각기

Silicon Deep Reactive Ion Etcher

금속박막식각시스템

Metal etcher system

소자측정분석시스템

Semi Auto probe Station System

씨모스전용 저압기상증착장비

씨모스전용 저압기상증착장비

배선공정용 화학기상증착장비

배선공정용 화학기상증착장비

저온플라즈마증착시스템

저온플라즈마증착시스템

다기능 전자빔 진공증착 시스템

Multi-functional electron beam evaporation system

금속박막증착시스템

Metal sputtering system

질화알루미늄 스퍼터링 시스템

AlN Sputtering System

비정질실리콘증착장비

a-Si PECVD

폴리실리콘화학기상증착장비

(Doped) Poly-Si LPCVD

전기도금장비

Electroplating machine

열 원자층 증착 시스템

thermal atomic layer depositon system

플라즈마 원자층 증착 시스템

Plasma Atomic Layer Deposition System

패럴린 코팅 시스템

Parylene coating system

화학기상증착시스템

LPCVD system

엘립소메타 시스템

Ellipsometer system

절연막 스퍼터링 시스템

Dielectric sputtering system

전자빔진공증착기

E-beam Evaporation system

플라즈마증착시스템

Plasma deposition system

박막증착시스템

Plasma-enhanced chemical vapor deposition system

검사용 마이크로스코프

Inspection microscope(manual)

박막두께측정기

Reflectometer

고성능 절연막 식각기

Dielectric ICP Etcher System

Hot Plate Baker II

Hot Plate Baker II

LPCVD Furnace

LPCVD Furnace

고출력∙고분해능 분말용 X-선 회절분석기

High Resolution Powder-XRD

고분해능 전계방출형 주사전자현미경

High Resolution FE-SEM-Ⅳ (JSM-IT710HR)

리프트오프용 이빔증착기

리프트오프용 이빔증착기

포토 레지스트 8종

Photo Resist_8 Type

Auto. double side mask alignment

Auto. double side mask alignment

P5000 5호기 [W]

C-CVD(W) System

Atomic Force Microscope-Ⅰ(D 3100) / AFM-Ⅰ

Atomic Force Microscope-Ⅰ(D 3100) / AFM-Ⅰ

Cutting/Grinding/Polishing System

Cutting/Grinding/Polishing System

Ion Beam Thinner

Ion Beam Thinner

Wet Station_Pre Clean

Wet Station_Pre Clean

Furnace_TEL - 1

Furnace_TEL - 1

ICP Dielectric Etcher (02)

ICP Dielectric Etcher (02)

ICP Metal Etcher (03)

ICP Metal Etcher (03)

Dry Etcher #3_Non metal_A_Chamber

Dry Etcher #3_Non metal_A_Chamber

Dry Etcher #3_Non metal_B_Chamber

Dry Etcher #3_Non metal_B_Chamber

Dry Etcher #5_metal_B_Chamber

Dry Etcher #5_metal_B_Chamber

Dry Etcher #5_metal_D_Chamber

Dry Etcher #5_metal_D_Chamber

Dry Etcher #6_metal_A_Chamber

Dry Etcher #6_metal_A_Chamber

Dry Etcher #6_metal_B_Chamber

Dry Etcher #6_metal_B_Chamber

Dry Etcher #6_metal_C_Chamber

Dry Etcher #6_metal_C_Chamber

HDP Dry Etcher_Non metal_PM1_Chamber

HDP Dry Etcher_Non metal_PM1_Chamber

HDP Dry Etcher_Non metal_PM2_Chamber

HDP Dry Etcher_Non metal_PM2_Chamber

PECVD #2_metal_A_Chamber (Oxide)

PECVD #2_metal_A_Chamber (Oxide)

PECVD #2_metal_B_Chamber (BPSG, TEOS)

PECVD #2_metal_B_Chamber (BPSG, TEOS)

PECVD #2_metal_C_Chamber (Nitride, Oxynitride)

PECVD #2_metal_C_Chamber (Nitride, Oxynitride)

PECVD #5_metal_A_Chamber (Oxide, Nitride)

PECVD #5_metal_A_Chamber (Oxide, Nitride)

Sputter #1_B_Chamber (Mo)

Sputter #1_B_Chamber (Mo)

Sputter #1_C_Chamber (Al, Ni, Cr)

Sputter #1_C_Chamber (Al, Ni, Cr)

Sputter #2_A2_Chamber (RF Clean)

Sputter #2_A2_Chamber (RF Clean)

Sputter #2_A3_Chamber (AlSi)

Sputter #2_A3_Chamber (AlSi)

Sputter #2_A5_Chamber (Ti, TiN)

Sputter #2_A5_Chamber (Ti, TiN)

Sputter #2_A6_Chamber (Alloy)

Sputter #2_A6_Chamber (Alloy)

Sputter #3_B_Chamber (TiW)

Sputter #3_B_Chamber (TiW)

Sputter #3_C_Chamber (AlSi)

Sputter #3_C_Chamber (AlSi)

Wet Station #1_B1_Bath (PR Strip_metal)

Wet Station #1_B1_Bath (PR Strip_metal)

Wet Station #1_B2_Bath (PR Strip_non metal)

Wet Station #1_B2_Bath (PR Strip_non metal)

Wet Station #1_B3_Bath (PR Develop)

Wet Station #1_B3_Bath (PR Develop)

Wet Station #1_D1_Bath(metal) (DI)

Wet Station #1_D1_Bath(metal) (DI)

Wet Station #1_D2_Bath(non metal) (DI)

Wet Station #1_D2_Bath(non metal) (DI)

Wet Station #2_Non metal_B1_Bath (H3PO4)

Wet Station #2_Non metal_B1_Bath (H3PO4)

Wet Station #2_Non metal_B2_Bath (H2SO4)

Wet Station #2_Non metal_B2_Bath (H2SO4)

Wet Station #2_Non metal_B3_Bath (LAL1000)

Wet Station #2_Non metal_B3_Bath (LAL1000)

Wet Station #2_Non metal_B4_Bath (100:1HF)

Wet Station #2_Non metal_B4_Bath (100:1HF)

Wet Station #2_Non metal_B5_Bath (7:1BHF)

Wet Station #2_Non metal_B5_Bath (7:1BHF)

Wet Station #2_Non metal_D1_Bath (DI)

Wet Station #2_Non metal_D1_Bath (DI)

Wet Station #3_Non metal_B1_Bath (H2SO4)

Wet Station #3_Non metal_B1_Bath (H2SO4)

Wet Station #3_Non metal_B2_Bath (SC1)

Wet Station #3_Non metal_B2_Bath (SC1)

Wet Station #3_Non metal_B3_Bath (100:1HF)

Wet Station #3_Non metal_B3_Bath (100:1HF)

Wet Station #3_Non metal_D1_Bath (DI)

Wet Station #3_Non metal_D1_Bath (DI)

Wet Station #4_Non metal_B1_Bath (H2SO4)

Wet Station #4_Non metal_B1_Bath (H2SO4)

Wet Station #4_Non metal_B2_Bath (SC1)

Wet Station #4_Non metal_B2_Bath (SC1)

Wet Station #4_Non metal_B3_Bath (100:1HF)

Wet Station #4_Non metal_B3_Bath (100:1HF)

Wet Station #4_Non metal_B4_Bath (50:1HF)

Wet Station #4_Non metal_B4_Bath (50:1HF)

Wet Station #4_Non metal_D1_Bath (DI)

Wet Station #4_Non metal_D1_Bath (DI)

Wet Station #5_metal_B1_Bath (LAL1000)

Wet Station #5_metal_B1_Bath (LAL1000)

Wet Station #5_metal_B3_Bath (H2SO4)

Wet Station #5_metal_B3_Bath (H2SO4)

Wet Station #5_metal_B3_Bath (Metal Etchant)

Wet Station #5_metal_B3_Bath (Metal Etchant)

Wet Station #5_metal_B4_Bath (50:1HF)

Wet Station #5_metal_B4_Bath (50:1HF)

Wet Station #5_metal_D1_Bath (DI)

Wet Station #5_metal_D1_Bath (DI)

Wet Station #5_non metal_D2_Bath (DI)

Wet Station #5_non metal_D2_Bath (DI)

오실로스코프 (03)

반도체 특성 분석기

반도체 특성 분석기

Power Source

Pulse Generator

Raman Spectroscopy(Alpha 300 R)

Raman Spectroscopy(Alpha 300 R)

Power Supply by 2 Items(김수환)

Logic Analyzer(전동석)

Power Supply by 3 Items

Data Generator

Logic Analyzer(16903A)

DC Power Supply

DC Electronic Load

Digital Hot Plates

Multi-Tools

Source Meter Dual Channel

DC Power Supply(2220G-30-1)

DC Power Supply(2230G-60-3)

Universal Frequency Counter / Timer

Femto/Pico Ammeter

Multimeter

Mixed Signal Oscilloscope(전동석)

Power Supply by 2 Items

DC Power Analyzer

Lightwave Measurement System

LAN/GPIB gateway

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